[发明专利]一种玻璃基板蚀刻液在审
申请号: | 201711340063.1 | 申请日: | 2017-12-14 |
公开(公告)号: | CN107954608A | 公开(公告)日: | 2018-04-24 |
发明(设计)人: | 张杰;沈励;郑建军;姚仕军;夏伟;吴青肖 | 申请(专利权)人: | 天津美泰真空技术有限公司 |
主分类号: | C03C15/00 | 分类号: | C03C15/00 |
代理公司: | 天津合志慧知识产权代理事务所(普通合伙)12219 | 代理人: | 宋西磊 |
地址: | 300000 *** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 玻璃 蚀刻 | ||
技术领域
本发明涉及玻璃基板减薄生产技术领域,尤其是涉及一种玻璃基板蚀刻液。
背景技术
平板显示领域中,包括等离子体显示、触摸屏、液晶显示等制备工艺过程中,为了进一步减轻显示器件的重量,生产厂家越来越多的采用将玻璃基板进行减薄的方法。玻璃基板减薄的方法通常有两种,一种是物理抛光研磨,另一种是化学蚀刻减薄,其中,化学蚀刻减薄是最为广泛应用的。目前,所使用的减薄蚀刻液基板采用的都是以氢氟酸为主要成分,但氢氟酸的毒性大、易挥发,尤其是在配置时需采用较高的温度和浓度,不仅生产过程中危险性高,而且会对环境造成巨大污染。
发明内容
有鉴于此,本发明旨在提出一种玻璃基板蚀刻液,通过优化配方,由氟化物提供F-,盐酸、醋酸、磺酸提供H+,同样达到了蚀刻玻璃的效果,还避免使用氢氟酸。
为达到上述目的,本发明的技术方案是这样实现的:
一种玻璃基板蚀刻液,该蚀刻液由包括如下重量百分比的原料制备得到:NaF:10-15%,NH4F:10-15%,盐酸:1-5%,醋酸:5-10%,磺酸:5-10%,乙二胺四乙酸(EDTA):1-5%,表面活性剂:1-2%,硝酸盐:1-5%,硫酸盐:1-5%,及余量的水。
进一步,所述磺酸为甲基磺酸或三氟甲磺酸。
进一步,所述硝酸盐为NaNO3或KNO3。
进一步,所述硫酸盐为Na2SO4。
进一步,所述表面活性剂为烷基硫酸钠、烷基聚氧乙烯醚硫酸钠、脂肪酸钠、烷基磺酸钠、脂肪醇硫酸钠中的一种或几种。
进一步,该蚀刻液由包括如下步骤的制备方法制备得到:
(1)将NaF、NH4F、乙二胺四乙酸(EDTA)、硫酸盐、硝酸盐加入水中,搅拌使其完全溶解;
(2)将盐酸、醋酸和磺酸混合后加入步骤(1)得到的水溶液中稀释;
(3)然后将表面活性剂加入步骤(2)得到的溶液中,搅拌均匀。
相对于现有技术,本发明所述的玻璃基板蚀刻液具有以下优势:
本发明所述的玻璃基板蚀刻液设计了全新的蚀刻液配方,采用NaF和NH4F,同时添加盐酸、醋酸和磺酸,在水溶液中,也可以得到蚀刻所需要的F-和H+,整个反应中不含氢氟酸,大大降低了蚀刻液的毒性,生产员工操作更加安全可靠;醋酸和磺酸属于弱酸,能够减缓反应速度,既满足了蚀刻要求又避免了蚀刻速度过快影响基材表面结构的问题;乙二胺四乙酸(EDTA)是良好的金属螯合剂,能够与蚀刻时产生的金属离子形成螯合物,更容易被水溶解,从而解决了时刻过程中副产物难溶的问题,避免产物附着在玻璃基板表面,提高了蚀刻速率和蚀刻效果;表面活性剂也能够对玻璃表面起到清洁的作用;硫酸盐和硝酸盐能够提供硫酸根和硝酸根,在溶液中存在H+的情况下,起到硫酸和硝酸的效果,能够溶解生产物和玻璃中的其他成分。
具体实施方式
需要说明的是,在不冲突的情况下,本发明中的实施例及实施例中的特征可以相互组合。
下面将结合实施例来详细说明本发明。
实施例1
一种玻璃基板蚀刻液,该蚀刻液由包括如表1所示的重量百分比的原料制备得到:
表1 实施例1的蚀刻液的配方
实施例2
一种玻璃基板蚀刻液,该蚀刻液由包括如表2所示的重量百分比的原料制备得到:
表2 实施例2的蚀刻液的配方
实施例3
一种玻璃基板蚀刻液,该蚀刻液由包括如表3所示的重量百分比的原料制备得到:
表3 实施例3的蚀刻液的配方
实施例4
一种玻璃基板蚀刻液,该蚀刻液由包括如表4所示的重量百分比的原料制备得到:
表4 实施例4的蚀刻液的配方
实施例1-4所述的玻璃基板蚀刻液由包括如下步骤的制备方法制备得到:
(1)将NaF、NH4F、乙二胺四乙酸(EDTA)、硫酸盐、硝酸盐加入水中,搅拌使其完全溶解;
(2)将盐酸、醋酸和磺酸混合后加入步骤(1)得到的水溶液中稀释;
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