[发明专利]提高通孔层OPC精度的方法有效
申请号: | 201711345445.3 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108107670B | 公开(公告)日: | 2020-11-24 |
发明(设计)人: | 江志兴;何大权;魏芳 | 申请(专利权)人: | 上海华力微电子有限公司 |
主分类号: | G03F1/36 | 分类号: | G03F1/36;G06F30/39 |
代理公司: | 上海浦一知识产权代理有限公司 31211 | 代理人: | 戴广志 |
地址: | 201203 上海市浦东新区*** | 国省代码: | 上海;31 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 提高 通孔层 opc 精度 方法 | ||
1.一种提高通孔层OPC精度的方法,其特征在于:选择正方形密集通孔图形的密集图形边,限制一个或两个密集图形边的修正,根据基于模型的OPC处理方法,赋予选定密集图形边以固定修正值;所述正方形密集通孔图形是指通孔图形之间间距小于或等于1.05X,所述密集图形边满足与相邻的通孔间距小于或等于1.05X,其中,X是假定设计规则规定通孔图形最小间距;所述限制一个或两个密集图形边的修正方法是,输入目标图形,选择正方形密集通孔图形;选择正方形密集通孔图形中的所有密集图形边;判断密集图形边是否小于3个,若小于,则选择1个或2个密集图形边,若不小于,则进一步判断密集图形边是否大于3个,若不大于,则选择2个互相平行的密集图形边。
2.如权利要求1所述的方法,其特征在于:所述选择正方形密集通孔图形通过drc脚本工具实现。
3.一种提高通孔层OPC精度的方法,其特征在于,包括如下步骤:
步骤1、输入目标图形,选择正方形密集通孔图形;
步骤2、选择正方形密集通孔图形中的所有密集图形边;
判断密集图形边是否小于3个,若小于,则选择1个或2个密集图形边,然后执行步骤3;若不小于,则进一步判断密集图形边是否大于3个,若不大于,则选择2个互相平行的密集图形边,然后执行步骤3,若大于,则执行步骤7;
步骤3、选择正方形密集通孔图形中的非密集图形边;
步骤4、选择正方形密集通孔内与非密集图形边相邻的通孔图形边;
步骤5、对密集图形边和通孔图形边进行逻辑与运算,得到固定修正值图形边;
步骤6、设定密集图形边的固定修正值;
步骤7、进行基于模型的OPC处理,在OPC迭代过程中,根据步骤5选出的固定修正值图形边按固定修正值作OPC修正,其它图形边按照基于模型的OPC处理方法进行迭代处理,得到最终的OPC图形;
所述正方形密集通孔图形是指通孔图形之间间距小于或等于1.05X,所述密集图形边满足与相邻的通孔间距小于或等于1.05X,所述非密集图形边满足与相邻的通孔间距大于1.05X,其中X是假定设计规则规定通孔图形最小间距。
4.如权利要求1或3所述的方法,其特征在于:固定修正值按照基于模型的OPC处理方法取得。
5.如权利要求3所述的方法,其特征在于:所述设定密集图形边的固定修正值是指根据密集图形边与其它相邻通孔的间距,设定在OPC处理中对选定密集图形边的固定修正值。
6.如权利要求3所述的方法,其特征在于:所述选择正方形密集通孔图形,选择1个或2个密集图形边和设定密集图形边的固定修正值通过drc脚本工具实现。
7.如权利要求1或3所述的方法,其特征在于:固定修正值的大小与密集通孔图形与其它图形的距离有关,根据基于模型的OPC处理方法选定密集图形边的修正量,并进行调整测试,得到最佳的固定修正值。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
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G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
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