[发明专利]掩模板、蒸镀设备和装置有效
申请号: | 201711352634.3 | 申请日: | 2017-12-15 |
公开(公告)号: | CN108004503B | 公开(公告)日: | 2021-01-19 |
发明(设计)人: | 谢飞;靳福江 | 申请(专利权)人: | 京东方科技集团股份有限公司;成都京东方光电科技有限公司 |
主分类号: | C23C14/04 | 分类号: | C23C14/04;C23C14/24;H01L51/56 |
代理公司: | 北京市柳沈律师事务所 11105 | 代理人: | 彭久云 |
地址: | 100015 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 模板 设备 装置 | ||
1.一种掩模板,包括:
相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条;
其中,所述掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成所述构件的掩模图案,在所述第一掩模条和在所述第二掩模条的交叉区域,所述第一掩模条和所述第二掩模条共同构成所述掩模图案的一部分;
在利用所述掩模板形成所述构件时,所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域在所述装置的待形成的所述构件所在面上的正投影对应于所述构件的边角区域;
其中,所述第一掩模条沿与所述掩模板所在的第一平面平行的第一方向延伸,所述第二掩模条沿与所述第一平面平行的第二方向延伸;以及
所述第一掩模条包括至少两个第一侧边,所述第二掩模条包括至少两个对应的第二侧边,
在所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域,所述第一掩模条的至少两个所述第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影和所述第二掩模条的对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影构成平滑相连的线段;
所述第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影与对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影至少部分重叠;
在所述第一方向上,所述第一掩模条包括彼此交替设置的至少一个第一部分和至少一个第二部分,在平行于所述第一平面且垂直于所述第一方向的方向上,所述第二部分的宽度大于所述第一部分的宽度,所述第二部分的与所述第一部分连接的边为所述第一侧边;以及
在所述第二方向上,所述第二掩模条包括彼此交替设置的至少一个第三部分和至少一个第四部分,在平行于所述第一平面且垂直于所述第二方向的方向上,所述第四部分的宽度大于所述第三部分的宽度,所述第四部分的与所述第三部分连接的边为所述第二侧边。
2.根据权利要求1所述的掩模板,其中,
所述第一掩模条为遮挡掩模条,所述第二掩模条为支撑掩模条,所述第二掩模条配置为支撑所述第一掩模条。
3.根据权利要求1或2所述的掩模板,其中,
所述线段的形状为圆弧形。
4.根据权利要求3所述的掩模板,其中,
所述第一方向与所述第二方向垂直,并且所述第一侧边的弧度为π/6~π/4,所述第二侧边的弧度为π/4~π/3。
5.根据权利要求4所述的掩模板,其中,
所述线段的弧度为π/2,并且所述线段的一个端点的切线与所述第一方向平行,所述线段的另一个端点的切线与所述第二方向平行。
6.根据权利要求1或2所述的掩模板,其中,
所述线段为直线段。
7.根据权利要求6所述的掩模板,其中,
所述第一方向和所述第二方向垂直,并且所述第一侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/3~1/2,所述第二侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/2~2/3。
8.根据权利要求7所述的掩模板,其中,
所述线段的延伸线所在的方向与所述第一方向和所述第二方向的夹角都为45度。
9.一种蒸镀设备,包括权利要求1-8中任一项所述的掩模板。
10.一种装置,该装置的构件至少之一由权利要求1-8中任一项所述的掩模板制备。
11.根据权利要求10所述的装置,其中,
所述装置包括有机发光二极管显示面板,所述构件包括空穴注入层、空穴传输层、有机发光层、电子传输层、电子注入层和金属电极中的一种或者组合。
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