[发明专利]掩模板、蒸镀设备和装置

说明书

一种掩模板、蒸镀设备和装置。该掩模板包括相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条，掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成构件的掩模图案，在第一掩模条和在第二掩模条的交叉区域，第一掩模条和第二掩模条共同构成该掩模图案的一部分。该掩模板可以降低掩模条的张网难度，提升掩模板的精度，从而提高利用该掩模板制造的装置的良率。

技术领域

本公开至少一个实施例涉及一种掩模板、蒸镀设备和装置。

背景技术

随着电子显示产品的普及，用户对电子显示产品的功能、外观的要求进一步提高。例如，对于精细掩模板来说，如果用该掩模板形成的电子显示产品的结构层具有特殊的形状(例如弧形等)，则用于形成该构件的掩模条可能需要在原有形状的基础上进行相应的形变设计，如果形变过大，会极大增加掩模条的张网难度，使得掩模条张网时因变形而伸展不均匀，导致掩模板精度不良，影响利用该掩模板制造的电子显示产品的良率。

发明内容

本公开至少一个实施例提供一种掩模板，包括：相互交叉设置的至少一个第一掩模条和至少一个第二掩模条；所述掩模板构造为用于形成一装置的构件且包括用于形成所述构件的掩模图案，在所述第一掩模条和在所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条和所述第二掩模条共同构成所述掩模图案的一部分。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，在利用所述掩模板形成所述构件时，所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域在所述装置的待形成的所述构件所在面上的正投影对应于所述构件的边角区域。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一掩模条沿与所述掩模板所在的第一平面平行的第一方向延伸，所述第二掩模条沿与所述第一平面平行的第二方向延伸；以及所述第一掩模条包括至少两个第一侧边，所述第二掩模条包括至少两个对应的第二侧边，在所述第一掩模条和所述第二掩模条的交叉区域，所述第一掩模条的至少两个第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影和所述第二掩模条的对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影构成平滑相连的线段。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，在所述第一方向上，所述第一掩模条包括彼此交替设置的至少一个第一部分和至少一个第二部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第一方向的方向上，所述第二部分的宽度大于所述第一部分的宽度，所述第二部分的与所述第一部分连接的边为所述第一侧边；以及在所述第二方向上，所述第二掩模条包括彼此交替设置的至少一个第三部分和至少一个第四部分，在平行于所述第一平面且垂直于所述第二方向的方向上，所述第四部分的宽度大于所述第三部分的宽度，所述第四部分的与所述第三部分连接的边为所述第二侧边。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一侧边中任一个在所述第一平面上的正投影与对应的所述第二侧边在所述第一平面上的正投影至少部分重叠。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一掩模条为遮挡掩模条，所述第二掩模条为支撑掩模条，所述第二掩模条配置为支撑所述第一掩模条。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段的形状为圆弧形。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一方向与所述第二方向垂直，并且所述第一侧边的弧度为π/6～π/4，所述第二侧边的弧度为π/4～π/3。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段的弧度为π/2，并且所述线段的一个端点的切线与所述第一方向平行，所述线段的另一个端点的切线与所述第二方向平行。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述线段为直线段。

例如，在本公开至少一个实施例提供的掩模板中，所述第一方向和所述第二方向垂直，并且所述第一侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/3～1/2，所述第二侧边在所述第一平面上的正投影的长度为所述线段的长度的1/2～2/3。