[发明专利]一种低密度铌基复合材料及制备方法有效

专利信息
申请号: 201711352916.3 申请日: 2017-12-15
公开(公告)号: CN108085526B 公开(公告)日: 2019-10-25
发明(设计)人: 肖来荣;余宸旭;宋宇峰;赵小军;张贝;刘建飞;郭蕾等 申请(专利权)人: 中南大学
主分类号: C22C1/05 分类号: C22C1/05;C22C1/10;C22C27/02;C23C24/08
代理公司: 长沙市融智专利事务所(普通合伙) 43114 代理人: 蒋太炜
地址: 410083 湖南*** 国省代码: 湖南;43
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摘要:
搜索关键词: 复合材料 制备 层状结构 料浆 铌基 表面涂覆涂层 层状微观结构 产品制备工艺 真空热压烧结 致密 生产成本低 层状组织 交替分布 均匀涂覆 压力烧结 制备工艺 喷涂 叠压 叠置 粉球 浸涂 增韧
【权利要求书】:

1.一种低密度铌基复合材料,所述铌基复合材料由Nb/Nb5Si3(Nb2C)层状结构叠置后压力烧结得到;所述Nb/Nb5Si3(Nb2C)层状结构由Nb箔表面涂覆涂层构成,所述涂层按质量百分比,包括下述组分:

Nb粉50%~90%,(Si粉+C粉)10%~50%;其中Si粉与C粉的质量比为1~3:1~3;

所述低密度铌基复合材料由下述步骤制备:

步骤一、Nb箔经酸洗、碱洗处理后,在酒精中超声波清洗干净,烘干;

步骤二、按设计的质量配比,取Nb粉、Si粉、C粉放入球磨罐中进行湿法球磨,得到料浆;

步骤三、将步骤二中所得料浆均匀涂覆于步骤一中得到的Nb箔表面,烘干后;将多层Nb箔叠置,真空条件下,升温至1850~2050℃进行压力烧结后随炉降温,得到低密度铌基复合材料;

步骤三中,升温速率为5~10℃/min,烧结保温时间为30~100min,炉内压力为40~60MPa,炉内真空度小于等于0.01Pa。

2.根据权利要求1所述的一种低密度铌基复合材料,其特征在于:所述涂层按质量百分比,包括下述组分:

Nb粉60%~80%,(Si粉+C粉)20%~40%;其中Si粉与C粉的质量比为1~3:1~3。

3.根据权利要求1所述的一种低密度铌基复合材料,其特征在于:

所述Nb箔厚度为5~50μm,Nb箔的纯度大于等于99.9%;

Nb粉的平均粒径尺寸为0.5~3μm,Si粉的平均粒径尺寸为1~5μm,C粉的平均粒径尺寸为0.8~5μm;Nb粉、Si粉、C粉的纯度均大于等于99.9%。

4.根据权利要求1-3任意一项所述的一种低密度铌基复合材料,其特征在于:所述涂层厚度为10~80μm。

5.根据权利要求1所述的一种低密度铌基复合材料,其特征在于:步骤二中,湿法球磨的球磨介质为质量百分浓度大于等于99.9%的乙醇溶液,球磨介质用量为球磨物料质量的1.5~3.5倍,球料质量比为3:1~10:1。

6.根据权利要求5所述的一种低密度铌基复合材料,其特征在于:球磨时间10h~15h,球磨机转速为200~400r/min。

7.根据权利要求1所述的一种低密度铌基复合材料,其特征在于:步骤三中,料浆采用喷涂/浸涂的方式均匀涂覆于Nb箔表面,形成厚度为5~80μm的料浆层。

8.根据权利要求1所述的一种低密度铌基复合材料,其特征在于:1400℃的抗压强度为300~450MPa;室温下断裂韧性为15~25MPa·m1/2;室温下密度为6.5~8.0g/cm3

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