[发明专利]反蛋白石结构防伪转印膜的制备方法

权利要求书

1.一种反蛋白石结构防伪转印膜的制备方法，其特征在于，包括：

(1)提供组装基底；

(2)制备含有硫化银量子点的二氧化硅光子晶体模板分散液；

(3)在组装基底表面涂布所制备的光子晶体模板分散液，干燥后制得胶体光子晶体模板膜；

(4)去除光子晶体模板，得到不同带隙的反蛋白石结构的硫化银纳米团簇光子晶体层；

(5)图案化所述硫化银银纳米团簇光子晶体层，以形成带防伪图案的转印膜。

2.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，所述组装基底为聚对苯二甲酸乙二酯薄膜、聚丙烯薄膜、聚乙烯薄膜、聚乙烯醇薄膜、聚乙烯。

3.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(2)包括：将含有3-10质量份的水和0.5-2质量份的氨的乙醇溶液加到反应器中，保持20-30℃并搅拌；含有正硅酸乙酯的乙醇溶液和硫化银量子点溶液加入到上述反应器中，同时保持在整个体系中正硅酸乙酯的浓度为0.2-0.25mol/L；搅拌2-3小时，离心洗涤；得到含硫化银量子点的二氧化硅微球，将其分散于乙醇溶液中得到固含量5-10％的所述光子晶体模板分散液。

4.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(3)包括：以卷对卷涂布方式在所述组装基底表面涂布所述光子晶体模板分散液，以获得连续的光子晶体模板层。

5.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(4)包括：用强碱性模板去除剂溶液浸泡溶解所述光子晶体模板，得到不同带隙的所述反蛋白石结构的硫化银纳米团簇光子晶体。

6.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(1)中，还包括在所述组装基底表面形成离型层的步骤。

7.根据权利要求6所述的制备方法，其特征在于，所述离型层由蜡质离型剂制成。

8.根据权利要求1所述的制备方法，其特征在于，所述步骤(5)包括：涂布UV树脂前驱物在所述硫化银纳米团簇光子晶体层表面后进行紫外光照射作业，然后以压印模具的立体结构面压印在所述组装基底上，再完全固化所述树脂薄膜形成外观立体图案面，从而形成带防伪图案的转印膜。