[发明专利]一种太阳能电池片的制造工艺

权利要求书

1.一种太阳能电池片的制造工艺，其特征在于，包括以下步骤：

S1、检测：对需要加工的硅片进行清洗和检测，去除不合格硅片；

S2、制绒：将经过检测的合格硅片放入碱性溶液中进行表面制绒处理；

S3、扩散制结：

A1、将制绒后的硅片放入扩散炉中，扩散炉中温度维持800-815℃，持续8min，同时向扩散炉中通入大氮、氧气和小氮的混合气体，小氮流量为3-4L/min，氧气流量为1-1.5L/min，大氮流量为8-10L/min；

A2、将扩散炉内的温度升高至825℃，之后保温10-15min，之后通入大氮、氧气和小氮的混合气体，混合气体流量为15-20L/min，氧气占混合气体的体积比为25-35%；

A3、在10min内使扩散炉中温度降低至750℃，在此过程中通入大氮、氧气的混合气体，氧气占混合气体的体积比为18-27%；

S4、去磷硅玻璃：将扩散制结后的硅片放入氢氟酸中浸泡，以去除扩散制结后在硅片表面形成的一层磷硅玻璃；

S5、镀膜：通过PECVD设备在硅片表面制备减反射膜；

S6、丝网印刷：将镀有减反射膜的硅片采用丝网印刷的方式在硅片的上下表面印制正、负电极；

S7、烘干及烧结。

2.根据权利要求1所述的一种太阳能电池片的制造工艺，其特征在于：清洗过程为将硅片先放入氢氧化钠溶液中浸泡10-12min、之后放入硝酸溶液中浸泡12-15min、之后放入氢氟酸溶液中浸泡5-8min。

3.根据权利要求2所述的一种太阳能电池片的制造工艺，其特征在于：氢氧化钠溶液浓度为6%、硝酸溶液浓度为1%、氢氟酸溶液浓度为1.2%。

4.根据权利要求1所述的一种太阳能电池片的制造工艺，其特征在于：镀减反射膜的厚度为70-75nm。

5.根据权利要求1所述的一种太阳能电池片的制造工艺，其特征在于：碱性制绒溶液为NaOH、Na2SiO3、IPA的混合溶液。

6.根据权利要求1所述的一种太阳能电池片的制造工艺，其特征在于：扩散制结中，采用的扩散源为POCl3。