[发明专利]OLED堆叠膜的质量评估的系统、设备和方法有效
申请号: | 201711385871.X | 申请日: | 2014-02-13 |
公开(公告)号: | CN107871818B | 公开(公告)日: | 2020-04-07 |
发明(设计)人: | 克里斯托弗.科卡 | 申请(专利权)人: | 卡帝瓦公司 |
主分类号: | H01L51/00 | 分类号: | H01L51/00;H01L51/56;G06T7/00 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 董均华;邓雪萌 |
地址: | 美国加利*** | 国省代码: | 暂无信息 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | oled 堆叠 质量 评估 系统 设备 方法 | ||
1.一种用于监测沉积在衬底上的膜的质量的计算机实施方法,所述膜用于在衬底上制作的相应发光元件中形成一层,所述膜对于每个发光元件跨越预定尺寸的区域,所述计算机实施方法包括:
对于每一个发光元件,
在沉积之后获得所述膜的数字图像,所述数字图像涵盖所述一个发光元件的预定尺寸的区域;
掩膜所述数字图像,以隔离与所述一个发光元件的预定尺寸的区域相对应的图像数据;
处理所隔离的图像数据以强调所隔离的图像数据中大于非零阈值的梯度;
根据所强调的大于非零阈值的梯度,识别缺陷的存在;以及
根据所述识别,自动地识别沉积在衬底上的膜的质量问题。
2.根据权利要求1所述的计算机实施方法,其中:
发光元件均是电子显示装置的相应像素;
所述计算机实施方法还包括:在衬底上打印液体涂层以形成所述膜;处理液体涂层以将液体涂层转换为一层相应的像素;使用照相机捕捉至少一个数字图像;以及将所述至少一个数字图像存储在计算机可访问存储器中;
显示装置经由一系列制作过程形成,所述制作过程相继地形成每个相应像素的相应层;以及
打印、处理和使用照相机均与制作过程中的给定一个相关地执行,在该系列的制作过程中的所述给定一个之前的至少一个过程完成之后,且在该系列的制作过程中的所述给定一个之后的至少一个过程开始之前。
3.根据权利要求2所述的计算机实施方法,其中,使用所述照相机捕捉包括:在已经处理液体涂层以将液体涂层转换为所述层之后,对所述层成像,且其中,对于所述显示装置的每个像素执行掩膜所述数字图像以及处理所隔离的图像数据。
4.根据权利要求2所述的计算机实施方法,其中,所述方法还包括如果识别到所述质量问题则开始补救措施,在该系列的制作过程中的所述给定一个之后的该系列的至少一个制作过程开始之前。
5.根据权利要求4所述的计算机实施方法,其中,如果识别到所述质量问题则开始所述补救措施包括:中断所述系列。
6.根据权利要求1所述的计算机实施方法,其中:
发光元件均是显示装置中的有机发光二极管(OLED);
所述计算机实施方法还包括:在衬底上打印所述层作为液体涂层以形成所述膜,所述液体涂层携带有机材料;以及处理所述液体涂层以将所述液体涂层转换为所述OLED的一层;以及
处理所述液体涂层还包括:执行烘焙或固化所述液体涂层中的一个以形成所述层。
7.根据权利要求1所述的计算机实施方法,其中,所述发光元件均为发光二极管,其中所述膜形成在相应于每个所述发光元件的结构井的疆界内,且其中所述掩膜所述数字图像包括:
处理所述数字图像以检测所述一个发光元件的所述结构井;
检测所述疆界;
根据检测到的疆界,形成掩膜图像,所述掩膜图像通过所述疆界以内的图像数据,而掩膜所述疆界以外的图像数据;以及
将所述掩膜图像应用到所述数字图像,以通过所述疆界以内的图像数据,以从而获得所隔离的图像数据。
8.根据权利要求1所述的计算机实施方法,其中,处理所隔离的图像数据以强调所隔离的图像数据中大于非零阈值的梯度包括:处理所隔离的图像数据的亮度值,以将所述亮度值转换为梯度值;以及将所述梯度值与所述非零阈值相比较,以识别大于所述非零阈值的梯度值。
9.根据权利要求8所述的计算机实施方法,其中,处理所述亮度值以将所述亮度值转换为所述梯度值包括:对单色亮度值应用索贝尔算子以获得所述梯度值。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于卡帝瓦公司,未经卡帝瓦公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711385871.X/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L51-00 使用有机材料作有源部分或使用有机材料与其他材料的组合作有源部分的固态器件;专门适用于制造或处理这些器件或其部件的工艺方法或设备
H01L51-05 .专门适用于整流、放大、振荡或切换且并具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的;具有至少一个电位跃变势垒或表面势垒的电容器或电阻器
H01L51-42 .专门适用于感应红外线辐射、光、较短波长的电磁辐射或微粒辐射;专门适用于将这些辐射能转换为电能,或者适用于通过这样的辐射进行电能的控制
H01L51-50 .专门适用于光发射的,如有机发光二极管
H01L51-52 ..器件的零部件
H01L51-54 .. 材料选择