[发明专利]带电粒子束装置和控制方法在审
申请号: | 201711391373.6 | 申请日: | 2017-12-21 |
公开(公告)号: | CN108231512A | 公开(公告)日: | 2018-06-29 |
发明(设计)人: | 铃木秀和 | 申请(专利权)人: | 日本株式会社日立高新技术科学 |
主分类号: | H01J37/26 | 分类号: | H01J37/26 |
代理公司: | 北京三友知识产权代理有限公司 11127 | 代理人: | 李辉;黄纶伟 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 带电粒子束装置 观察条件 照射带电粒子束 带电粒子 照射部 观察 带电粒子束 输入接受部 参数控制 检测信号 存储部 导出部 形成部 导出 照射 存储 图像 检测 | ||
提供带电粒子束装置和控制方法。本发明的带电粒子束装置能够提高通过向试样照射带电粒子束进行的、与试样对应的作业的效率。该带电粒子束装置具有:照射部,其向试样照射带电粒子束;像形成部,其检测通过带电粒子束的照射而从试样产生的带电粒子,并形成基于该带电粒子的检测信号的图像;输入接受部,其接受观察条件;导出部,其根据所接受的观察条件和存储在存储部中的第一观察参数导出适于该观察条件的第二观察参数;以及控制部,其根据第二观察参数控制照射部。
技术领域
本发明涉及带电粒子束装置和控制方法。
背景技术
向物体的截面/表面照射带电粒子束(带电粒子的射束)从而获取该截面的截面像/表面像的技术的研究和开发正在进行。
与此相关,在由产生离子束的离子源、使离子束会聚的透镜系统、限制离子束的电流的电动可变多孔、载置想要利用离子束进行加工的试样的载台、对在将离子束照射到试样上时产生的二次粒子进行检测的检测器、对电动可变多孔进行控制的离子光学系统控制部、根据二次粒子对试样的加工进行控制的计算机系统构成的会聚离子束加工装置中,公知有如下的加工装置:与离子束的电流量对应地将透镜的设定、像散校正值、孔径和像的偏差量等离子束光学条件、以及多个加工内容事先存储在计算机中,根据加工内容而选择、设定光学条件并进行多个加工(参照专利文献1)。
专利文献1:日本特开平10-106474号公报
然而,在现有的加工装置中,每当变更加工的试样时必须调整光学条件等与试样的加工/观察相关的各种条件。其结果是,在加工装置中,有时很难提高对多个试样进行加工的作业的效率。
发明内容
因此,本发明就是鉴于上述现有技术的问题而完成的,提供能够提高通过向试样照射带电粒子束来进行的、与试样对应的作业的效率的带电粒子束装置和控制方法。
本发明的一个方式是一种带电粒子束装置,该带电粒子束装置具有:照射部,其向试样照射带电粒子束;像形成部,其检测通过所述带电粒子束的照射而从所述试样产生的带电粒子,并形成基于该带电粒子的检测信号的图像;输入接受部,其接受观察条件;导出部,其根据所接受的所述观察条件和存储在存储部中的第一观察参数导出适于该观察条件的第二观察参数;以及控制部,其根据所述第二观察参数控制所述照射部。
另外,在本发明的另一方式中,在带电粒子束装置中也可以使用如下结构:所述输入接受部接受使所述带电粒子束加速的加速电压、所述带电粒子束的射束电流、使所述带电粒子束会聚的物镜的动作模式即镜头模式、保持所述试样的支架的种类、所述试样的材质、载置所述试样的载台的位置即载台位置中的一部分或全部的组合作为所述观察条件,在所述存储部中存储有该组合作为所述第一观察参数。
另外,在本发明的另一方式中,在带电粒子束装置中也可以使用如下结构:在所述存储部中存储有与所述照射部进行的所述带电粒子束的照射相关的表示射束照射条件的1个以上的射束照射参数和与所述带电粒子的检测相关的表示检测条件的1个以上的检测参数中的一部分或全部的组合作为所述第二观察参数。
另外,在本发明的另一方式中,在带电粒子束装置中也可以使用如下结构:所述射束照射参数是使所述照射部照射所述带电粒子束时对所述照射部设定的准心(aligner)、射束移位、OL值、标记值(stigma value)中的一部分或全部的组合,所述检测条件是对比度值、亮度值中的任意一方或两者的组合。
另外,在本发明的另一方式中,在带电粒子束装置中也可以使用如下结构:在所述存储部中存储有将所述第一观察参数和所述第二观察参数对应起来的数据库,所述导出部根据所接受的所述观察条件和所述第一观察参数导出包含于所述数据库中的所述第二观察参数中的、貌似与该观察条件对应的所述第二观察参数作为适于该观察条件的所述第二观察参数。
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