[发明专利]成膜设备及其调整方法

权利要求书

1.一种成膜设备，其特征在于，所述成膜设备包括：腔体、加热平台、连接件和辅助装置；所述腔体与所述加热平台相对设置，且所述加热平台和所述腔体之间的距离能够调整，所述加热平台通过所述连接件与所述腔体连接；所述辅助装置包括传感器和显示单元，所述传感器设置于所述腔体与所述加热平台之间，所述传感器与所述显示单元连接；所述连接件包括杆件和固定件，所述杆件连接所述腔体和所述加热平台，所述加热平台能够沿着所述杆件移动，所述固定件能够固定所述加热平台；所述成膜设备还包括支撑件，所述支撑件固定连接所述腔体和所述加热平台；所述辅助装置还包括第一平板和第二平板，所述第一平板贴合于所述腔体的下表面，所述第二平板贴合于所述加热平台的上表面，所述腔体的下表面与所述加热平台的上表面相对，所述传感器设置于所述第一平板和所述第二平板之间。

2.如权利要求1所述的成膜设备，其特征在于，所述传感器与所述第一平板及所述第二平板贴合。

3.如权利要求1所述的成膜设备，其特征在于，所述传感器数量为一个或多个。

4.如权利要求3所述的成膜设备，其特征在于，所述传感器为多个时，多个所述传感器分散在所述加热平台上。

5.如权利要求4所述的成膜设备，其特征在于，所述连接件的数量为多个，多个所述连接件均匀分布于所述加热平台上。

6.如权利要求5所述的成膜设备，其特征在于，所述连接件的数量为两个，所述支撑件的数量为一个，两个所述连接件和一个所述支撑件呈三角形分布；所述传感器的数量为三个，分别靠近两个所述连接件和一个所述支撑件。

7.一种如权利要求1～6中任一项所述的成膜设备的调整方法，其特征在于，所述成膜设备的调整方法包括：

传感器感测腔体和加热平台多个位置之间的压力；

显示单元显示感测到的所述腔体和所述加热平台之间的压力；

当得到的多个位置之间的压力不相等时，调整所述加热平台，使得所述腔体和所述加热平台多个位置之间的压力相等。

8.如权利要求7所述的成膜设备的调整方法，其特征在于，传感器感测腔体和加热平台多个位置之间的压力包括：传感器感测两个连接件和一个支撑件所在位置的压力。

9.如权利要求8所述的成膜设备的调整方法，其特征在于，当得到的多个位置之间的压力不相等时，调整所述腔体和所述加热平台的步骤包括：

以所述支撑件所在位置的压力为基准，调整所述连接件，以使得所述连接件所在位置的压力与所述支撑件所在位置的压力相等。