[发明专利]去除斜边凸起的方法

说明书

本发明提供的去除斜边凸起的方法，包括：输入初始目标图形；选择长度小于第一预设值的短边，所述短边与坐标轴平行或垂直；选择与短边相邻的边为斜边，所述斜边与所述短边成135°；收缩所述斜边，形成目标多边形，且所述目标多边形与所述短边共边；选择与所述目标多边形接触的边为扩展边，所述扩展边延伸并向内扩展第二预设值形成覆盖区域；将所述目标多边形与所述覆盖去除进行非逻辑运算，形成移除图形；将所述初始目标图形与所述移除图形进行非逻辑运算，得到处理后的图形。本发明中，在OPC之前对初始目标图形进行预处理，去除斜边上的凸起，能够减少斜边上凸起对OPC结果的影响，提高OPC结果的一致性。

技术领域

本发明涉及半导体光刻技术领域，尤其涉及一种去除斜边凸起的方法。

背景技术

集成电路出版光学邻近效应修正(Optical Proximity Correction,,，OPC)过程中，版图结果的一致性一直是难点之一，相同或相近的目标图形经过大面积完整版图OPC处理后，经常出现OPC结果差异，导致这些差异的原因很多，图形边上的凸起(Jog)是其中一个重要的因素。

在记忆体集成电路产品中，重复性单元占据了版图大部分区域。这些重复性单元具有一样的设计图形，设计者希望通过掩模板在硅片上得到一样的图形结果。受到版图解析度等因素的影响，在产品出版处理过程中，重复性单元可能产生细微的差异，比如图形边的凸起，这些微小差异对OPC处理产生更多的影响，因为它改变了图形边的分段结果，并影响最终的OPC结果。为了避免这些凸起对OPC结果的影响，有必要在进行基于模型的OPC处理前进行预处理，减少图形边凸起对OPC结果的影响。

传统的OPC处理流程中，利用图形填充或者图形去除来消除图形中的小凸起，图1a为初始目标图形，存在一个小凸起，利用Mentor公司的DRC工具首先找到符合条件的小凸起Jog，如图1b所示，Jog与其邻边JA之间成90度角，根据Jog与相邻图形边的距离关系形成包含两条边的最小矩形JR，如图1c所示，初始目标图形去除多边型JR得到新的目标图形，结果如图1d。

当45度斜边上存在图形凸起(Jog)，利用传统的方法不能去除图形凸起，导致OPC处理中存在修正异常可能性，或者导致OPC后版图一致性变差。为了减少斜边上图形凸起对OPC结果的影响，有必要在OPC修正前去除图形凸起，提高OPC结果的准确性与一致性。

发明内容

本发明的目的在于，提供一种去除斜边凸起的方法，减少斜边上凸起对OPC结果的影响，提高OPC结果的一致性。

为了实现上述目的，本发明一种去除斜边凸起的方法，包括：

输入初始目标图形；

选择长度小于第一预设值的短边，所述短边与坐标轴平行或垂直；

选择与短边相邻的边为斜边，所述斜边与所述短边成135°；

收缩所述斜边，形成目标多边形，且所述目标多边形与所述短边共边；

选择与所述目标多边形接触的边为扩展边，所述扩展边延伸并向内扩展第二预设值形成覆盖区域；

将所述目标多边形与所述覆盖去除进行非逻辑运算，形成移除图形；

将所述初始目标图形与所述移除图形进行非逻辑运算，得到处理后的图形。

进一步的，将所述初始目标图形与所述移除图形进行非逻辑运算后还包括：进行内部距离运算，形成移除多边形；去除所述移除多边形。

进一步的，所述第二预设值小于所述第一预设值。

进一步的，所述第一预设值为2nm～6nm。

进一步的，所述第二预设值为2nm～6nm。

进一步的，所述斜边与坐标轴成45°角。