[发明专利]涂布装置在审
| 申请号： | 201711420238.X | 申请日： | 2017-12-25 |
| 公开（公告）号： | CN107913822A | 公开（公告）日： | 2018-04-17 |
| 发明（设计）人： | 郑俊丰 | 申请（专利权）人： | 武汉华星光电技术有限公司 |
| 主分类号： | B05C1/08 | 分类号： | B05C1/08;B05C13/02 |
| 代理公司： | 深圳市铭粤知识产权代理有限公司44304 | 代理人： | 孙伟峰 |
| 地址： | 430070 湖北省武汉市*** | 国省代码： | 湖北;42 |
| 权利要求书： | 查看更多 | 说明书： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 装置 | ||
1.一种涂布装置，其特征在于，包括第一载台、第二载台及涂布机构，所述涂布机构位于所述第一载台与所述第二载台之间，所述涂布机构沿与所述第一载台、第二载台平行的方向做往返运动并依次对所述第一载台、第二载台上的基板进行涂布。
2.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述涂布机构包括整膜轮和涂布轮，所述整膜轮与所述涂布轮平行，所述整膜轮的表面与所述涂布轮的表面相接触。
3.根据权利要求2所述的涂布装置，其特征在于，所述整膜轮在垂直于所述第一载台、第二载台的方向上高于所述涂布轮。
4.根据权利要求3所述的涂布装置，其特征在于，所述整膜轮的轴线与所述涂布轮的轴线所在的平面与所述第一载台、第二载台所在的平面的之间的夹角为锐角。
5.根据权利要求2-4任一所述的涂布装置，其特征在于，所述整膜轮的转动方向与所述涂布轮的转动方向相反。
6.根据权利要求5所述的涂布装置，其特征在于，所述整膜轮的底面直径小于所述涂布轮的底面直径。
7.根据权利要求6所述的涂布装置，其特征在于，所述涂布轮的底面直径小于所述第一载台与所述第二载台之间的间距。
8.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述第一载台朝向所述涂布轮的一面为弧面，所述第二载台朝向所述涂布轮的一面为弧面。
9.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，所述第一载台用于承载TFT基板，所述第二载台用于承载CF基板。
10.根据权利要求1所述的涂布装置，其特征在于，还包括注入结构，所述注入结构用于将涂布液注入至所述涂布机构。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息，商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电技术有限公司，未经武汉华星光电技术有限公司许可，擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作，请联系【客服】
本文链接：http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711420238.X/1.html，转载请声明来源钻瓜专利网。
