[发明专利]基板处理系统

说明书

本发明提供一种可提升基板处理的生产率的基板处理系统及基板处理方法。基板处理系统具备：平流处理部、同时处理部(40)及基板搬运部(TR1)。平流处理部沿着搬运方向依次搬运基板(W)并且对所述基板逐片进行处理。同时处理部(40)对N(2以上的整数)片基板(W)同时进行处理。基板搬运部(TR1)将由平流处理部处理的多个基板(W)中的N片基板(W)在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板(W)整批搬运至同时处理部(40)。

技术领域

本发明涉及一种基板处理系统及基板处理方法。

背景技术

已知晓具有多个处理装置的涂布/显影(coater/developer)装置。例如，在专利文献1记载的涂布/显影装置中，从载置于分度器(indexer)部的匣盒(cassette)中取出的多个基板依次被投入清洗装置中，然后，按顺序经由脱水烘烤装置、抗蚀剂(resist)涂布装置、预烘烤装置、曝光装置、显影装置及后烘烤装置，并再次被收容至匣盒中。

所述涂布/显影装置中混合存在以下两种类型的处理装置。即，混合存在平流处理装置与可变搬运型的处理装置。在所述平流处理装置中，基板是逐片地搬入。平流处理装置沿着一个方向依次搬运这些基板并对基板逐片进行处理。所述平流处理装置例示有清洗装置及显影装置。

在可变搬运型的处理装置中，基板也是逐片地搬入。可变搬运型的处理装置具有：多个处理部、以及对所述多个处理部搬运基板的基板搬运部件。基板搬运部件具有：接收基板的手(hand)、以及使所述手向各处理部移动的移动机构。所述基板搬运部件从上游侧的装置逐片接收基板并将基板传递至处理部。另外，基板搬运部件还可以在处理部的相互之间搬运基板。所述可变搬运型的处理装置例如例示有脱水烘烤装置。在所述脱水烘烤装置中设置有加热部及冷却部作为多个处理部。

[现有技术文献]

[专利文献]

[专利文献1]日本专利特开2015-156426号公报

发明内容

[发明所要解决的问题]

然而，在这种可变搬运型的处理装置中，基板是从上游侧的装置逐片搬运至可变搬运型的处理装置中。另外，在所述可变搬运型的处理装置的内部，各处理部对基板逐片进行处理。因此，存在基板处理的生产率低这一问题。

本发明是鉴于所述课题而完成的，目的在于提供一种可提升基板处理的生产率的基板处理系统及基板处理方法。

[解决问题的技术手段]

为了解决所述课题，基板处理系统的第一方式具备：平流处理部，沿着搬运方向依次搬运基板并且对所述基板逐片进行处理；同时处理部，对N片基板同时进行处理，其中N为2以上的整数；及第一基板搬运部，将由所述平流处理部处理的多个基板中的所述N片基板在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板整批搬运至所述同时处理部。

基板处理系统的第二方式是根据第一方式所述的基板处理系统，其进而具备间隔调整部，所述间隔调整部将在所述平流处理部处理的所述N片基板的间隔调整为在所述同时处理部对所述N片基板进行同时处理时的基板的间隔，所述第一基板搬运部将在间隔调整部调整了间隔的所述N片基板在水平的一个方向上并排保持，并且将所述N片基板整批搬运至所述同时处理部。

基板处理系统的第三方式是根据第二方式所述的基板处理系统，其中，所述间隔调整部具有搬运传送机，在所述搬运传送机上依次对所搬入的所述N片基板的停止位置分别进行控制并调整所述间隔。

基板处理系统的第四方式是根据第二方式所述的基板处理系统，其中，所述间隔调整部具有：支撑部，将所述N片基板沿着水平的排列方向并排支撑；挡块，用于决定由所述支撑部支撑的所述N片基板的所述排列方向的各位置；及按压构件，将由所述支撑部支撑的所述N片基板中的每一个基板往所对应的所述挡块按压并抵接于所对应的所述挡块。