[发明专利]日式陶瓷釉、日式陶瓷产品及其制备方法在审
申请号: | 201711435168.5 | 申请日: | 2017-12-26 |
公开(公告)号: | CN108083645A | 公开(公告)日: | 2018-05-29 |
发明(设计)人: | 肖杨 | 申请(专利权)人: | 湖南港鹏实业有限公司 |
主分类号: | C03C8/00 | 分类号: | C03C8/00;C04B41/86 |
代理公司: | 深圳市千纳专利代理有限公司 44218 | 代理人: | 何耀煌 |
地址: | 412200 *** | 国省代码: | 湖南;43 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 陶瓷釉 陶瓷产品 制备 方解石 重量百分比 钾长石 氧化铝 瓷石 黄蜡 石英 釉料 釉面 柔和 | ||
1.一种日式陶瓷釉,其特征在于它所使用的釉料的组分及各组分的重量百分比如下:黄蜡石9~18%、江东土8~14%、金华瓷石10~18%、方解石12~19%、钾长石27~35%、石英7~17%、氧化铝2~5%。
2.一种日式陶瓷产品,其特征在于:它使用如权利要求1所述的日式陶瓷釉。
3.一种如权利要求2所述的日式陶瓷产品的制备方法,其特征在于方法的步骤中含有:
按照釉料的各组分及各组分的重量百分比备料;
然后经过球磨和过筛后获得釉料;
然后以浸釉的方式,将釉料施于高白泥素坯上,再通过中温釉烧的方式获得日式陶瓷产品。
4.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:过筛工序中,过250目筛,筛余小于0.1%。
5.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:高白泥素坯的素烧温度为750℃。
6.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:中温釉烧的釉烧温度为1220~1250℃。
7.根据权利要求3所述的制备方法,其特征在于:釉料施于高白泥素坯上的釉层厚度为1.5~2mm。
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