[发明专利]可降解二维黑磷作为基因编辑载体的应用

权利要求书

1.可降解二维黑磷纳米片作为基因编辑载体的应用，所述可降解二维黑磷纳米片的厚度为1～10nm，其尺寸为50～150nm。

2.根据权利要求1所述的应用，其特征在于：可降解二维黑磷选自裸露的二维黑磷或修饰的二维黑磷中的至少一种。

3.根据权利要求2所述的应用，其特征在于：修饰的二维黑磷包括共价、配位修饰或高分子包裹的二维黑磷。

4.根据权利要求1～3任一项所述的应用，其特征在于：二维黑磷的制备方法为：黑磷粉末溶于N-甲基吡咯烷酮中，冰水浴超声及探头超声进行液相剥离，离心、清洗、再分散后得到裸露的二维黑磷片层，或对裸露的二维黑磷片层进一步修饰。

5.根据权利要求1～3任一项所述的应用，其特征在于：基因编辑体系为CRISPR/Cas9体系。

6.根据权利要求5所述的应用，其特征在于：CRISPR/Cas9体系为编码Cas9/sgRNA的质粒、mRNA、Cas9蛋白或预组装的Cas9-sgRNA核酸蛋白复合体。

7.一种基因编辑的方法，包括如下步骤：

将二维黑磷-CRISPR/Cas9纳米复合材料与细胞共孵育，使CRISPR/Cas9基因编辑体系有效的运载至细胞内，二维黑磷载体在溶酶体内发生降解，将负载的CRISPR/Cas9基因编辑体系释放到胞质内，该体系进而在细胞核内发挥定向基因编辑的功能。

8.根据权利要求7所述的方法，其特征在于：二维黑磷-CRISPR/Cas9纳米复合材料是将二维黑磷分散于适当溶液中，加入构建好的CRISPR/Cas9基因编辑体系，震荡孵育一定时间后制备得到。

9.根据权利要求7或8所述的方法，其特征在于：用于基因编辑的细胞包括正常细胞和肿瘤细胞。