[发明专利]加米霉素中间体化合物I的晶型及其制备方法和应用

权利要求书

1.一种加米霉素中间体化合物I的晶型，所述加米霉素中间体化合物I结构如式I所示：

所述晶型的X射线粉末衍射谱图的反射角2θ在10.59±0.2，12.15±0.2，12.67±0.2，15.80±0.2，18.57±0.2中一处、两处、三处、四处或五处具有特征峰。

2.根据权利要求1所述的晶型，其特征在于，所述晶型的X射线粉末衍射谱图的反射角2θ在16.69±0.2，17.33±0.2，18.14±0.2中一处、两处或三处具有特征峰；和/或所述晶型的X射线粉末衍射的反射角2θ在20.18±0.2，20.59±0.2，21.51±0.2中一处、两处或三处具有特征峰；和/或所述晶型的X射线粉末衍射谱图的反射角2θ在14.89±0.2，24.49±0.2，26.65±0.2，34.86±0.2中一处、两处、三处或四处具有特征峰；和/或所述晶型的X射线粉末衍射谱图的反射角2θ在11.05±0.2，22.99±0.2，23.70±0.2，25.37±0.2，26.19±0.2中一处、两处、三处、四处或五处具有特征峰。

3.根据权利要求1或2所述的晶型，其特征在于，所述晶型具有与图1或图3实质上一致的x射线粉末衍射谱图，和/或所述晶型具有与表1或表2实质上一致的x射线粉末衍射数据。

4.根据权利要求1-3中任一项所述的晶型，其特征在于，所述晶型具有与图2实质上一致的红外谱图和/或所述晶型为正交晶系，空间群为P2₁2₁2，优选所述晶型包含至少一分子的溶剂分子，优选所述溶剂为乙酸乙酯。

5.根据权利要求1-4中任一项所述的晶型的制备方法，包括：使所述加米霉素中间体化合物I从溶剂中析晶，其中所述溶剂为异丙醇，或所述溶剂为丙酮和水的混合物，或所述溶剂为乙酸乙酯与二氯甲烷的混合物。

6.根据权利要求5所述的制备方法，其特征在于，所述溶剂为异丙醇，所述加米霉素中间体化合物I与异丙醇的比例为1:(2-20)g/ml，优选1:(3-10)g/ml，更优选1:(4-8)g/ml；或所述溶剂为丙酮与水的混合物，所述加米霉素中间体化合物I与丙酮的比例为1:(2-20)g/ml，优选1:(3-10)g/ml，更优选1:(3.5-5.5)g/ml，并且丙酮与水的体积比为1:(2-7)，优选为1:(3-5)，更优选为1:(3.5-4.5)；或所述溶剂为乙酸乙酯与二氯甲烷的混合物，所述加米霉素中间体化合物I与二氯甲烷的比例为1:(2-20)g/ml，优选为1:(5-15)，更优选为1:(6-12)，并且乙酸乙酯与二氯甲烷的体积比为(1.5-2.5):1，优选(1.2-2.2):1，更优选(1.1-2.1):1，例如2:1。

7.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于，所述方法包括将所述加米霉素中间体化合物I溶解于异丙醇，然后在15-35℃的温度下搅拌析晶。

8.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于，所述方法包括将所述加米霉素中间体化合物I溶解于丙酮形成溶液，向所述溶液中加入水，然后在15-35℃的温度下搅拌析晶。

9.根据权利要求5或6所述的制备方法，其特征在于，其特征在于，所述方法包括将所述加米霉素中间体化合物I溶解于乙酸乙酯和二氯甲烷的混合物中，然后在10-50℃优选20-30℃的温度下通过减少溶剂的量析晶。

10.根据权利要求1-4中任一项所述的晶型或根据权利要求5-9中任一项所述的制备方法获得的晶型在加米霉素的制备中的应用。