[发明专利]显示装置及其制造方法有效

专利信息
申请号: 201711445546.8 申请日: 2017-12-27
公开(公告)号: CN108254955B 公开(公告)日: 2021-03-30
发明(设计)人: 金正勋;成侑哲;河沇沃;金炳熙 申请(专利权)人: 乐金显示有限公司
主分类号: G02F1/1333 分类号: G02F1/1333;G03F9/00
代理公司: 北京集佳知识产权代理有限公司 11227 代理人: 蔡胜有;董文国
地址: 韩国*** 国省代码: 暂无信息
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摘要:
搜索关键词: 显示装置 及其 制造 方法
【说明书】:

本发明公开了一种显示装置及其制造方法。显示装置包括下基板、位于下基板上的子像素以及位于子像素中至少之一中的精细对准标记。制造显示装置的方法包括:在目标基板外部形成对准标记并且在目标基板上的被限定为显示区域的有效区域内部形成精细对准标记;使用对准标记和精细对准标记来对准目标基板和掩模基板;以及使用目标基板和掩模基板执行曝光操作。

相关申请的交叉引用

本申请要求于2016年12月29日提交的韩国专利申请第10-2016-0182537号的权益,该专利申请如同在本文中完全阐述一样通过引用并入本文用于所有目的。

技术领域

本公开涉及一种显示装置及其制造方法。

背景技术

随着信息技术的发展,用作用户与信息之间的连接媒介的显示装置的市场正在增长。因此,诸如有机发光二极管(OLED)显示器、液晶显示器(LCD)和等离子体显示面板(PDP)的显示装置的使用正在上升。

显示装置中的一些(例如,液晶显示器或OLED显示器)包括显示面板和用于驱动显示面板的驱动器,所述显示面板包括布置成矩阵的多个子像素。驱动器包括向显示面板提供栅极信号(或称为“扫描信号”)的栅极驱动器、向显示面板提供数据信号的数据驱动器等。

当栅极信号、数据信号等被提供至布置成矩阵的子像素时,显示装置的被选择的子像素发光并且可以显示图像。此外,除了子像素之外,显示面板包括诸如信号线和电源线的薄膜结构。

为了形成薄膜结构,必须执行用于对准掩模基板(mask substrate)和目标基板的工艺、曝光工艺、显影工艺、蚀刻工艺等。在相关技术中,当制造大尺寸显示装置时,可以基于设置在目标基板外部的对准标记(key)来对准掩模基板和目标基板。然而,当根据相关技术制造超大显示装置时,在对准掩模基板和目标基板、设计曝光等方面存在困难。因此,有必要解决这些困难。

发明内容

在一个实施方案中,本公开提供了一种显示装置,其包括下基板、子像素和精细对准标记。子像素位于下基板上。精细对准标记位于子像素中至少之一中。

在另一实施方案中,本公开提供了一种制造显示装置的方法,该方法包括:在目标基板外部形成对准标记并且在目标基板上的被限定为显示区域的有效区域内部形成精细对准标记;使用对准标记和精细对准标记来对准目标基板和掩模基板;以及使用目标基板和掩模基板执行曝光操作。

附图说明

包括附图以提供对本发明的进一步理解并且附图被并入本说明书且构成本说明书的一部分,附图示出了本发明的实施方案,并且附图与说明书一起用于解释本发明的原理。在附图中:

图1是显示装置的示意性框图;

图2示出了图1所示的子像素的配置的一个示例;

图3示意性地示出了制造显示面板的方法;

图4示意性地示出了显示面板的截面;

图5示意性地示出了根据相关技术的对准掩模基板和目标基板的方法;

图6示意性地示出了根据本公开的第一实施方案的对准掩模基板和目标基板的方法;

图7至图12示出了根据本公开的第二实施方案的精细对准标记;

图13是根据本公开的第三实施方案的包括精细对准标记的子像素的平面图;

图14是沿图13的线A1-A2截取的截面图;

图15是根据本公开的第四实施方案的包括精细对准标记的子像素的平面图;

图16是沿图15的线B1-B2截取的截面图;

图17是根据本公开的第五实施方案的不包括精细对准标记的子像素的平面图;

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