[发明专利]像素单元、显示面板及其制备方法有效
申请号: | 201711450016.2 | 申请日: | 2017-12-27 |
公开(公告)号: | CN108962939B | 公开(公告)日: | 2021-07-09 |
发明(设计)人: | 陈亚文 | 申请(专利权)人: | 广东聚华印刷显示技术有限公司 |
主分类号: | H01L27/32 | 分类号: | H01L27/32;H01L51/56 |
代理公司: | 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 | 代理人: | 郑彤 |
地址: | 510000 广东省广州市广州*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 像素 单元 显示 面板 及其 制备 方法 | ||
1.一种像素单元排列结构,其特征在于,包括多个像素单元,所述像素单元包括:
基板;
像素界定层,层叠设置于所述基板上,包括第一像素bank和第二像素bank,所述第一像素bank具有第一开口,所述第二像素bank位于所述第一开口内,并将所述第一开口分成两个第二开口,所述第一像素bank的厚度大于所述第二像素bank的厚度;
两个像素电极,层叠设置于所述基板上,两个所述像素电极分别对应于两个所述第二开口;
发光功能层,层叠于所述像素电极,并覆盖所述第一开口;
以及顶电极,层叠于所述发光功能层,并覆盖所述像素界定层;
所述像素单元的形状为矩形,相邻的两个所述像素单元沿矩形短边对齐排列,相邻的两个所述像素单元的第一开口沿矩形长边交错排列;
所述像素单元包括相邻的两个子像素,各所述子像素包括发光区域和非发光区域,所述发光区域对应所述第二开口,同一像素单元中的两个所述子像素的所述发光区域相互靠近,所述像素单元排列结构中所述发光区域和所述非发光区域交错排列。
2.根据权利要求1所述的像素单元排列结构,其特征在于,还包括平坦层,所述平坦层位于所述基板与所述像素界定层之间。
3.根据权利要求2所述的像素单元排列结构,其特征在于,还包括驱动电路,所述驱动电路嵌设于所述平坦层,并与所述第一开口交错设置。
4.根据权利要求1-3任一项所述的像素单元排列结构,其特征在于,所述发光功能层包括空穴注入层、空穴传输层、发光层、电子传输层和电子注入层中的一层或多层。
5.一种显示面板,其特征在于,包括多个权利要求1-4任一项所述的像素单元排列结构。
6.根据权利要求5所述的显示面板的制备方法,其特征在于,包括如下步骤:
提供一具有驱动电路的基板;
于所述基板上制作图案化像素电极;
于所述基板上制作像素界定层,所述像素界定层包括第一像素bank和第二像素bank,所述第一像素bank具有第一开口,所述第一开口的形状为矩形,相邻的所述第一开口沿矩形长边交错设置,所述第二像素bank位于所述第一开口内,并将所述第一开口分成2个第二开口,所述第一像素bank的厚度大于所述第二像素bank的厚度;所述像素电极对应于所述第二开口;于所述第一开口沉积制作发光功能层;
于所述发光功能层沉积制作顶电极,并覆盖所述像素界定层。
7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,所述第一像素bank的厚度为0.5μm~2μm,所述第二像素bank的厚度为0.1μm~0.2μm。
8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于,还包括如下步骤:
于所述基板上制作平坦层,所述驱动电路嵌设于所述平坦层。
9.一种显示装置,其特征在于,包括权利要求5所述的显示面板。
10.根据权利要求9所述的显示装置,其特征在于,该显示装置为OLED或QLED。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L27-00 由在一个共用衬底内或其上形成的多个半导体或其他固态组件组成的器件
H01L27-01 .只包括有在一公共绝缘衬底上形成的无源薄膜或厚膜元件的器件
H01L27-02 .包括有专门适用于整流、振荡、放大或切换的半导体组件并且至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的;包括至少有一个跃变势垒或者表面势垒的无源集成电路单元的
H01L27-14 . 包括有对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射或者微粒子辐射并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或适用于通过这样的辐射控制电能的半导体组件的
H01L27-15 .包括专门适用于光发射并且包括至少有一个电位跃变势垒或者表面势垒的半导体组件
H01L27-16 .包括含有或不含有不同材料结点的热电元件的;包括有热磁组件的