[发明专利]一种光刻胶清洗液

说明书

本发明公开了一种光刻胶清洗液，属于光刻胶领域。该光刻胶清洗液包括以下质量百分比的组分：1％‑6％的季铵氢氧化物水合物或季铵氢氧化物溶液、1％‑10％的醇胺、以及余量的助溶剂；该季铵氢氧化物水合物或季铵氢氧化物溶液包括：质量百分比大于或等于80％的季铵氢氧化物。该清洗液的水含量较低，通过上述各组分的协同作用，具有对光刻胶清洗效果强，同时，对金属基材，例如铝、铜、锡、锡银合金等损伤低，对光刻胶图案无损伤等优点，有效解决了现有技术光刻胶清洗液的清洗效果差，对金属基材损伤大的问题。

技术领域

本发明涉及光刻胶领域，特别涉及一种光刻胶清洗液。

背景技术

在半导体制造领域，通过基材表面上形成光刻胶掩膜，曝光后进行图形转移，在得到期望的图形之后，需要利用清洗液来剥去残留的光刻胶。所以，提供一种光刻胶清洗液是十分必要的。

现有技术提供了这样一种光刻胶清洗液，其包括：四甲基氢氧化铵、二甲基亚砜、1,3-二甲基-2-咪唑烷酮和水。

发明人发现现有技术至少存在以下技术问题：

现有技术提供的清洗液对光刻胶的清洗效果较差，而且，对金属类基材的损伤偏高。

发明内容

为克服相关技术中存在的问题，本发明提供一种光刻胶清洗液，所述技术方案如下：

一种光刻胶清洗液，所述光刻胶清洗液包括以下质量百分比的组分：1％-6％的季铵氢氧化物水合物或季铵氢氧化物溶液、1％-10％的醇胺、以及余量的助溶剂；

所述季铵氢氧化物水合物或所述季铵氢氧化物溶液包括：质量百分比大于或等于80％的季铵氢氧化物。

在一种可能的实现方式中，所述光刻胶清洗液还包括质量百分比小于或等于6％的多元醇。

在一种可能的实现方式中，所述多元醇选自乙二醇、1,2-丙二醇、1,3-丙二醇、丙三醇、1,2,3,4,5-戊五醇、山梨糖醇、甘露醇中的至少一种。

在一种可能的实现方式中，所述季铵氢氧化物选自四甲基氢氧化铵、四乙基氢氧化铵、四丙基氢氧化铵、四丁基氢氧化铵、甲基三乙基氢氧化铵、三-(2-羟乙基)甲基氢氧化铵、苄基三甲基氢氧化铵中的至少一种。

在一种可能的实现方式中，所述醇胺为具有2-6个碳原子数的醇胺。

在一种可能的实现方式中，所述醇胺选自乙醇胺、二乙醇胺、三乙醇胺、异丙醇胺、正丙醇胺、二甘醇胺中的至少一种。

在一种可能的实现方式中，所述助溶剂选自二甲基亚砜、N-甲基吡咯烷酮、N-乙基吡咯烷酮、N-羟乙基吡咯烷酮、二甲基甲酰胺、二甲基乙酰胺、二乙二醇单甲醚、二乙二醇单乙醚、二丙二醇单乙醚中的至少一种。

本发明实施例提供的技术方案带来的有益效果是：

本发明实施例提供的光刻胶清洗液，通过上述配比的各组分的协同作用，特别是采用了季铵氢氧化物含量大于或等于80％的季铵氢氧化物水合物或季铵氢氧化物溶液，保证了溶解于该光刻胶清洗液中的结晶水或溶剂水的水含量极低，使得该光刻胶清洗液对金属基材，例如铝、铜、锡、锡银合金等损伤低。同时，还具有对光刻胶清洗效果强，对光刻胶图案无损伤等优点，有效解决了现有技术光刻胶清洗液的清洗效果差，对金属基材损伤大的问题。

具体实施方式

除非另有定义，本发明实施例所用的所有技术术语均具有与本领域技术人员通常理解的相同的含义。为使本发明的目的、技术方案和优点更加清楚，下面将对本发明实施方式作进一步地详细描述。