[发明专利]基于磁控技术的镀膜玻璃及制备方法

说明书

技术领域：

本发明涉及玻璃镀膜技术领域，涉及一种基于磁控技术的镀膜玻璃及制备方法。

背景技术：

目前市面上常见的低辐射玻璃主要为单银和双银结构的，其中单层银的应用占主导地位，随着社会能耗的不断增加，节能要求越来越高，普通单银Low-E中空玻璃已不能很好地满足需要，此外，人们在选择建筑物的玻璃门窗时，除了考虑性能和外观特征外，室内的透过色中性视觉效果也得到了广泛的关注。

发明内容：

本发明的目的是提供一种基于磁控技术的镀膜玻璃及制备方法，通过在浮法玻璃基片表面镀上具有低辐射特性的功能膜，来降低玻璃表面的辐射率，从而提高玻璃的节能性能，低辐射镀膜玻璃在夏季可以阻隔物体受太阳照射后发出的二次辐射热，同样冬季可以减少室内的热量向外流失，从而发挥隔热、保温、节能降耗的目的。

上述的目的通过以下的技术方案实现：

基于磁控技术的镀膜玻璃，其组成包括：玻璃基片，所述的玻璃基片厚度为4.0~10.0mm，经过磁控溅射镀膜工艺沉积进行多层镀膜，所述的多层镀膜包括：第一氧化物层、第一金属氧化物层、金属银层、金属钛层、第二金属氧化物层、第二氧化物层、氧化铜保护层。

所述的基于磁控技术的镀膜玻璃的制备方法，首先制备玻璃基片，顺次在玻璃基片上镀第一氧化物层、镀第一金属氧化物、镀第一金属银、镀金属钛层、镀第二金属氧化物层、再次镀第二金属氧化物层、镀氧化铜保护层，所述的玻璃基片经过以上多层镀膜后，通过实验室分析检测，其可见光波长380nm~780nm时透过率为85%~90%，透过颜色a*值为-1.0~-2.0，b*值为1.0~2.0，遮阳系数为0.6~0.7。

所述的基于磁控技术的镀膜玻璃的制备方法，所述的制备玻璃基片方法为，玻璃基片的优选厚度为6mm，取相应外形尺寸的玻璃基片放置于设备上，通过超纯净水清洗干净，清除水迹，并将并将离线磁控溅射设备的真空度设置在2~3×10^-3 Pa，线速度设置为4.0~5.0 m/min。

所述的基于磁控技术的镀膜玻璃的制备方法，所述的镀第一氧化物层是将玻璃基片传送入镀膜腔室中，设置镀第一氧化物层的设备总功率为0~80KW，在玻璃基片上镀上第一氧化物层，镀层厚度为20.0~40.0 nm。

所述的基于磁控技术的镀膜玻璃的制备方法，所述的镀第一金属氧化物是在镀第一氧化物层的基础上，持续镀第一金属氧化物层，设备总功率为60~120KW，在基片复合层上镀上第一金属氧化物，镀层厚度为5.0~10.0nm，其中金属氧化物为单一氧化物，不限于ZnSnO_x、ZnO、AZO、ZrOx、SnO₂氧化物组合层。

所述的基于磁控技术的镀膜玻璃的制备方法，所述的镀第一金属银层是在镀第一金属氧化物的基础上镀金属银层，设备总功率为7.5~8.0 KW，在基片复合层上镀上第一金属银，镀层厚度为9.0~15.0 nm。

所述的基于磁控技术的镀膜玻璃的制备方法，所述的镀金属钛层是在镀第一金属银的基础上持续镀金属钛层，设备总功率为12.0~14.0 KW，在基片复合层上镀上金属钛层，镀层厚度为0.8~1.5 nm。

所述的基于磁控技术的镀膜玻璃的制备方法，所述的镀第二金属氧化物层是在镀金属钛层的复合层上镀第二金属氧化物层，设备总功率为150~160KW，镀层厚度为30.0~50.0 nm，其中金属氧化物为单一氧化物，不限于ZnSnO_x、ZnO、AZO、ZrOx、SnO₂氧化物组合层；

在上一步的基础上第二次持续镀第二氧化物层，设备总功率为115.0~125.0 kW，在基片复合层上第二次镀第二金属氧化物层，镀层厚度为35.5~45.5 nm。

所述的基于磁控技术的镀膜玻璃的制备方法，在镀第二金属氧化物层基础上持续镀氧化铜保护层，设备总功率为0.0~50.0 kW，在基片复合层上镀氧化铜保护层，镀层厚度为0.0~15.0 nm。

有益效果：

1. 本发明针对现有技术的不足，经过特殊膜系设计，采用磁控镀膜工艺技术，开发了一种新的可后续加工的镀膜玻璃，此镀膜玻璃不仅具有低的遮阳系数，同时还实现了透过色中性的效果，是一种超高透过率超低辐射率玻璃。