[发明专利]蒸镀用掩模板在审

专利信息
申请号: 201711465247.0 申请日: 2017-12-28
公开(公告)号: CN108198956A 公开(公告)日: 2018-06-22
发明(设计)人: 朱东日 申请(专利权)人: 武汉华星光电半导体显示技术有限公司
主分类号: H01L51/56 分类号: H01L51/56;C23C14/04
代理公司: 深圳市铭粤知识产权代理有限公司 44304 代理人: 孙伟峰;武岑飞
地址: 430070 湖北省武汉市东湖新技术*** 国省代码: 湖北;42
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 蒸镀 通孔 板体 隔离柱 蒸镀面 开口 有机发光层 掩模板 遮挡 有机发光二极管面板 尺寸设计 均匀性 良率 排布 贯穿
【权利要求书】:

1.一种蒸镀用掩模板,其特征在于:包括板体(1),所述板体(1)包括一蒸镀面(6)以及与蒸镀面(6)相对的接触面(3),所述板体(1)上阵列排布有用于蒸镀的蒸镀通孔(2),所述板体(1)上位于蒸镀通孔(2)之间的这部分板体(1)为第一遮挡部(4),所述蒸镀通孔(2)贯穿蒸镀面(6)以及接触面(3),所述蒸镀通孔(2)的开口尺寸小于有机发光二极管面板中隔离柱之间的开口尺寸,从而使蒸镀通孔(2)上形成第二遮挡部(5)。

2.根据权利要求1所述的蒸镀用掩模板,其特征在于:所述蒸镀通孔(2)的的孔壁为光滑表面。

3.根据权利要求1或2所述的蒸镀用掩模板,其特征在于:所述蒸镀通孔(2)位于蒸镀面(6)的一侧开口的开口尺寸大于位于接触面(3)的一侧开口的开口尺寸,形成截面为倒梯形的蒸镀通孔(2)。

4.根据权利要求1或2所述的蒸镀用掩模板,其特征在于:所述蒸镀通孔(2)为阶梯孔,包括第一孔(21)和第二孔(22),所述第一孔(21)设于蒸镀面(6)的一侧,第二孔(22)设于接触面(3)的一侧,所述第一孔(21)的开口尺寸大于第二孔(22)的开口尺寸。

5.根据权利要求1所述的蒸镀用掩模板,其特征在于:所述蒸镀面(6)以及蒸镀通孔(2)的孔壁上设有不粘涂层(9)。

6.根据权利要去1所述的蒸镀用掩模板,其特征在于:所述板体(1)的材料为金属合金。

7.根据权利要求6所述的蒸镀用掩模板,其特征在于:所述金属合金为铁镍合金、镍钴合金或者铁钴合金中的任意一种。

8.根据权利要求5所述的蒸镀用掩模板,其特征在于:所述不粘涂层(9)为氧化铝陶瓷膜或二氧化钛陶瓷膜。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于武汉华星光电半导体显示技术有限公司,未经武汉华星光电半导体显示技术有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711465247.0/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top