[发明专利]一种高频高压二极管及其制作方法有效
申请号: | 201711465730.9 | 申请日: | 2017-12-28 |
公开(公告)号: | CN108155105B | 公开(公告)日: | 2020-07-03 |
发明(设计)人: | 王兴龙;王利军;邓令;刘章利 | 申请(专利权)人: | 重庆平伟伏特集成电路封测应用产业研究院有限公司 |
主分类号: | H01L21/50 | 分类号: | H01L21/50;H01L23/31;H01L23/535 |
代理公司: | 重庆市前沿专利事务所(普通合伙) 50211 | 代理人: | 顾晓玲 |
地址: | 405200 重庆市*** | 国省代码: | 重庆;50 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 高频 高压 二极管 及其 制作方法 | ||
本发明公开了一种高频高压二极管及其制作方法,该二极管包括X个二极管芯片和Y个肖特基芯片,X、Y均为正整数;所有二极管芯片和肖特基芯片相互之间串联且导电方向相同;还包括将二极管芯片和肖特基芯片包围的塑封层和外伸的引线。本发明具有高反压和极快开关的特点。
技术领域
本发明涉及一种二极管技术领域,特别是涉及一种高频高压二极管及其制作方法。
背景技术
电子信息技术是近年来发展最迅猛的产业,半导体整流器件做为电子电路中必不可少的电子元器件之一也得到飞速发展和更广泛应用,随着各种高压高频电路的出现和应用,具有高反压,极快开关特性的整流二极管是目前应用前景更广阔的品种,同时也对相关性能提出更高的要求。
PN结结构的芯片是常用整流二极管芯片,具有较高的反向击穿电压,常用于一般的低频整流线路而不适用于高频电路,这是由于PN结中的电荷存储效应,使PN结二极管具有较大的反向恢复时间,即开关速度较慢。虽然制作工艺上通过采用掺金,单纯的扩散等工艺,可获得较高的开关速度,同时也能得到较高的耐压,但反向恢复时间一般仍在25ns以上,在某些特殊电路中仍显速度较慢,导致功耗上升,效率降低。
而具有肖特基特性的“金属半导体结”的芯片。其正向起始电压较低。其金属层除铬材料外,还可以采用金、钼、镍、钛等材料。其半导体材料采用硅或砷化镓,多为N型半导体。这种器件是由多数载流子导电的,所以,其反向饱和电流较以少数载流子导电的PN结大得多。由于肖特基二极管中少数载流子的存贮效应甚微,所以其频率响仅为RC时间常数限制,因而,它是高频和快速开关的理想器件。其工作频率可达100GHz。但是,由于肖特基二极管的反向势垒较薄,所以反向电压比较低,现有工艺条件情况下一般不会高于300V。上述问题是现目前亟待解决的难题。
发明内容
本发明旨在至少解决现有技术中存在的问题,特别创新地提出了一种高频高压二极管及其制作方法。
本发明提供了一种高频高压二极管,包括X个二极管芯片和Y个肖特基芯片,所述X、Y均为正整数;所有二极管芯片和肖特基芯片相互之间串联且导电方向相同;还包括将二极管芯片和肖特基芯片包围的塑封层和外伸的引线。
本发明既具有二极管的高反压特性,又具有肖特基二极管的极快开关特性。具有成本低,易实现,适应范围广等特点。
在本发明的一种优选实施方式中,当X=1,Y=1时,肖特基芯片的正极与二极管芯片的负极相连,肖特基芯片的负极与第一引线相连,二极管芯片的正极与第二引线相连;
或者肖特基芯片的负极与二极管芯片的正极相连,肖特基芯片的正极与第一引线相连,二极管芯片的负极与第二引线相连。
单层二极管芯片与肖特基芯片的结构反向电压可达到400-1500V,反向恢复快。
在本发明的一种优选实施方式中,当X≠1,Y=1时,依次按照顺序将二极管芯片串联;肖特基芯片与第1个二极管芯片串联,或肖特基芯片与第X个二极管芯片串联。
多层二极管芯片与肖特基芯片结构反向电压可达到3000-20000V,反向恢复快。
在本发明的一种优选实施方式中,当X=2,Y=1时,第1个二极管芯片的负极与第2个二极管芯片的正极相连,第2个二极管芯片的负极与肖特基芯片的正极相连,第1个二极管芯片的正极与第一引线相连,肖特基芯片的负极与第二引线相连;或者肖特基芯片的负极与第1个二极管芯片的正极相连,第1个二极管芯片的负极与第2个二极管芯片的正极相连,肖特基芯片的正极与第一引线相连,第2个二极管芯片的负极与第二引线相连。
该结构的二极管与一般二极管相比具有具有高反压,反向恢复快的特点。
在本发明的一种优选实施方式中,塑封层为环氧树脂。通过环氧树脂将二极管芯片和肖特基芯片塑封在其内,提高了器件的可靠性和寿命,同时降低了成本和提高了生产效率。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于重庆平伟伏特集成电路封测应用产业研究院有限公司,未经重庆平伟伏特集成电路封测应用产业研究院有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201711465730.9/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类
H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L21-00 专门适用于制造或处理半导体或固体器件或其部件的方法或设备
H01L21-02 .半导体器件或其部件的制造或处理
H01L21-64 .非专门适用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各组的单个器件所使用的除半导体器件之外的固体器件或其部件的制造或处理
H01L21-66 .在制造或处理过程中的测试或测量
H01L21-67 .专门适用于在制造或处理过程中处理半导体或电固体器件的装置;专门适合于在半导体或电固体器件或部件的制造或处理过程中处理晶片的装置
H01L21-70 .由在一共用基片内或其上形成的多个固态组件或集成电路组成的器件或其部件的制造或处理;集成电路器件或其特殊部件的制造