[发明专利]一种掩模板制作的优化设计方法

权利要求书

1.一种掩模板制作的优化设计方法，适用于掩模板曝光工序，其特征在于，具体包括以下步骤：

曝光设备根据数据图形、光束数量及光束扫描宽度进行X/Y方向划分，计算出相应的曝光条数，获取相邻曝光条数重叠区域的位置以及重叠区域所对应的数据图形；

根据重叠区域所对应的数据图形再次设计增加数据图案，以再次设计增加的数据图案消弱或反补重叠区域的二次曝光能量。

2.根据权利要求1所述的一种掩模板制作的优化设计方法，其特征在于，反补重叠区域的二次曝光能量具体包括以下步骤：

沿着重叠区域所对应的数据图形的外边缘向外延伸设计，反补二次曝光能量。

3.根据权利要求1所述的一种掩模板制作的优化设计方法，其特征在于，消弱重叠区域的二次曝光能量具体包括以下步骤：

在二次曝光前，采用增加马赛克图案的再次设计方案对重叠区域所对应的数据图形的边缘附近进行部分遮蔽。

4.根据权利要求1所述的一种掩模板制作的优化设计方法，其特征在于，消弱重叠区域的二次曝光能量具体包括以下步骤：

在二次曝光前，采用增加分段式图案的再次设计方案对重叠区域所对应的数据图形的边缘附近进行部分遮盖。

5.根据权利要求3或4所述的一种掩模板制作的优化设计方法，其特征在于，数据图案由若干圆形、长条形、方形、锥形、梯形、三角形和/或不规则形状的单元图形组合构成。

6.根据权利要求5所述的一种掩模板制作的优化设计方法，其特征在于，任一单元图形的图形尺寸均小于曝光设备实际制作能力的图形尺寸。