[发明专利]用于铜/钼膜层的蚀刻液及其应用

权利要求书

1.一种用于铜/钼膜层的蚀刻液，其特征在于，包括均匀混合的氧化剂、无机酸、有机酸、蚀刻稳定剂以及螯合剂；

其中，在所述蚀刻液中，所述氧化剂的质量百分数为0.1％～40％，所述无机酸的质量百分数为0.1％～5％，所述有机酸的质量百分数为0.1％～30％，所述蚀刻稳定剂的质量百分数为0.001％～5％，所述螯合剂的质量百分数为0.1％～5％。

2.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述氧化剂为氧化性酸和/或所述氧化性酸的水溶性盐。

3.根据权利要求2所述的蚀刻液，其特征在于，所述氧化剂选自过氧化氢、次氯酸、高氯酸、高锰酸、过硫酸、过氧乙酸中的至少一种。

4.根据权利要求3所述的蚀刻液，其特征在于，所述水溶性盐选自钠盐、钾盐、钙盐、铵盐中的至少一种。

5.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述无机酸选自硫酸、盐酸、磷酸中的至少一种；所述有机酸选自甲酸、乙酸、丙酸、丁酸、戊酸、柠檬酸、苹果酸、乙醇酸、草酸、乙二酸、丙二酸、丁二酸、戊二酸、酒石酸、葡萄糖酸、甘氨酸、琥珀酸中的至少一种。

6.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻稳定剂为咪唑啉季铵盐和/或疏基苯并三氮唑。

7.根据权利要求1所述的蚀刻液，其特征在于，所述螯合剂选自亚氨基二乙酸、氨三乙酸、乙二胺四乙酸、二乙烯三胺五乙酸、氨基三亚甲基膦酸、1-羟基亚乙基-1,1-二磷酸、乙二胺四甲撑磷酸、二亚乙基三胺五亚甲基磷酸、肌氨酸、丙氨酸、谷氨酸、氨基丁酸及甘氨酸中的至少一种。

8.根据权利要求1-7任一所述的蚀刻液，其特征在于，所述蚀刻液的pH为3.5～5.5。

9.一种如权利要求1-8任一所述的蚀刻液在液晶显示面板中的应用。