[发明专利]一种减反射镀膜玻璃和制备方法

说明书

本发明揭示一种减反射镀膜玻璃和制备方法，减反射镀膜玻璃包括：玻璃基片、过渡层、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层以及第二低折射率层；高折射率过渡层由氮化硅、氧化锌、氧化锌铝以及氧化锌锡中的一种组成；高折射率过渡层还可由第一子高折射率过渡层和第二子高折射率过渡层组成，第一子高折射率过渡层为二氧化硅，第二子高折射率过渡层为氮化硅；第一高折射率层为氧化钛；第一低折射率层为二氧化硅；第二高折射率层为氧化钛；第二低折射率层为二氧化硅；第二低折射率层还可由第一低折射率子层和第二低折射率子层组成；第一低折射率子层为氮化硅、氧化锌、氧化锌铝或者氧化锌锡中的一种，第二低折射率子层为二氧化硅。

技术领域

本发明涉及玻璃制造技术领域，具体地，涉及一种减反射镀膜玻璃和制备方法。

背景技术

在商业街区、文物展览、玻璃幕墙建筑等场合下，都需要使用大版面高透过、低反射的玻璃制品，以保证能最大限度的消除玻璃制品的界面感，使得观察者能最为清晰的观察到玻璃制品背部景物。以上的玻璃制品不但要考虑整个大版面玻璃制品高透过、低反射的光学表现，还要满足最终玻璃成品检测标准中对视觉缺陷的限制，而且还需要考虑到玻璃整体制品必须具有足够的机械性能，以抵御一定的外界作用力冲击。

在经过化学或物理钢化处理后的玻璃制品可在其基底表面通过施镀一层减反射膜层制成高透过、低反射的玻璃制品，但钢化工艺本身已经限定了玻璃制品的版面尺寸、厚度以及外型(不能弯曲)，而且由于设备的限制，一般较厚的复合制品(夹层)无法进入磁控溅射设备，特别是进行物理钢化处理后的玻璃制品，虽然符合标准但仍有一定弯曲度的产品。而且，经过钢化处理后的玻璃制品一旦在设备内部发生自损毁或由碰撞引发的损毁，将不可避免的中断镀膜生产，并且需要进行设备腔体内部的清洁，这将引起非常大的生产损耗。

发明内容

针对现有技术的不足，本发明提供一种减反射镀膜玻璃和制备方法。

根据本发明的第一方面，本发明提供一种减反射镀膜玻璃，包括：

玻璃基片以及由所述玻璃基片的其中一个表面依次设置的高折射率过渡层、第一高折射率层、第一低折射率层、第二高折射率层以及第二低折射率层；

所述高折射率过渡层由氮化硅、氧化锌、氧化锌铝以及氧化锌锡中的一种组成；所述高折射率过渡层还可以由第一子高折射率过渡层以及第二子高折射率过渡层组成，其中，所述第一子高折射率过渡层为二氧化硅，所述第二子高折射率过渡层为氮化硅；所述第一高折射率层为氧化钛；所述第一低折射率层为二氧化硅；所述第二高折射率层为氧化钛；所述第二低折射率层为二氧化硅；所述第二低折射率层还可以由第一低折射率子层以及第二低折射率子层组成；所述第一低折射率子层为氮化硅、氧化锌、氧化锌铝或者氧化锌锡中的一种，所述第二低折射率子层为二氧化硅。

根据本发明的一实施方式，高折射率过渡层的折射率为1.45至2.10之间，并且其总厚度为20至40nm之间。

根据本发明的一实施方式，第一高折射率层的折射率为2.45至2.65之间，并且其总厚度为6至20nm之间。

根据本发明的一实施方式，第一低折射率层的折射率为1.45至1.60之间，并且其总厚度为25至50nm之间。

根据本发明的一实施方式，第二高折射率层的折射率为2.45至2.62之间，并且其总厚度为20至30nm之间或者80-100nm之间。

根据本发明的一实施方式，第二低折射率层的折射率为1.45至2.10之间，并且其总厚度为80-110nm之间。

根据本发明的第二方面，本发明提供一种如本发明的第一方面所述的减反射镀膜玻璃的制备方法，其包括如下步骤：

步骤A：将玻璃基片放置于磁控溅射镀膜设备的腔体内，使玻璃基片于真空环境下保持匀速前进；