[发明专利]一种除草剂抗性高光谱多维扫描系统及方法

说明书

本发明提供了一种除草剂抗性高光谱多维扫描系统及方法，其中，系统包括：圆柱形暗箱，在圆柱形暗箱内部沿圆柱形暗箱的侧壁设置有升降轨道；在圆柱形暗箱内部沿圆柱形暗箱的一周设置有旋转轨道，且旋转轨道设置在升降轨道上，旋转轨道在升降轨道的带动下进行升降；旋转轨道上设置有高光谱相机；圆柱形暗箱侧壁底端设置有一对入口和出口，贯穿所述入口和所述出口设置有一平移轨道，平移轨道用于运载杂草进入所述圆柱形暗箱，并在高光谱相机从不同高度以及不同角度采集完杂草叶片的光谱信息后，运载杂草从所述出口离开圆柱形暗箱。本发明能够获取杂草叶片的高光谱信息，进而根据杂草叶片的高光谱信息可实现杂草叶片上的除草剂的抗药性的识别。

技术领域

本发明涉及农业生产技术领域，具体涉及一种除草剂抗性高光谱多维扫描系统及方法。

背景技术

在农作物的培养种植过程中，杂草的生长对农作物的生长很不利，由于杂草的生长能力强、蔓延速度较快，严重影响农作物对阳光和养分的吸收。为了克服杂草对作物的危害，在过去的许多年里，农田化学除草已成为全球现代农业生产的重要组成部分。然而，由于过度依赖和长期使用相对有限的化学除草剂，导致了抗药性杂草的发生和发展，且杂草抗药性问题越来越突出。为了对杂草对抗药性的发生原因进行推测并根据杂草的发展趋势进行预警或提出相应的解决方案，科研工作者都需要及时掌握杂草抗药性基础数据才能做出判断。

发明内容

针对现有技术中的缺陷，本发明提供了一种除草剂抗性高光谱多维扫描系统及方法，本发明能够获取杂草叶片的高光谱信息，进而根据杂草叶片的高光谱信息可实现杂草叶片上的除草剂的抗药性的识别。

为实现上述目的，本发明提供了以下技术方案：

第一方面，本发明提供了一种除草剂抗性高光谱多维扫描系统，包括：圆柱形暗箱，在所述圆柱形暗箱内部沿所述圆柱形暗箱的侧壁设置有升降轨道；在所述圆柱形暗箱内部沿所述圆柱形暗箱的一周设置有旋转轨道，且所述旋转轨道设置在所述升降轨道上，所述旋转轨道在所述升降轨道的带动下进行升降；所述旋转轨道上设置有高光谱相机；

所述圆柱形暗箱侧壁底端设置有一对入口和出口，贯穿所述入口和所述出口设置有一平移轨道，所述平移轨道用于运载杂草进入所述圆柱形暗箱，并在所述高光谱相机从不同高度以及不同角度采集完所述杂草叶片的光谱信息后，运载杂草从所述出口离开所述圆柱形暗箱。

优选地，所述圆柱形暗箱为塑料暗箱。

优选地，所述圆柱形暗箱为金属暗箱。

优选地，所述升降轨道在第一步进电机的驱动下进行升降。

优选地，所述旋转轨道在第二步进电机的驱动下进行旋转。

优选地，所述平移轨道在第三步进电机的驱动下进行平移。

优选地，所述第一步进电机为微型步进电机。

优选地，所述升降轨道包括第一轨道杆和第二轨道杆，所述第一轨道杆和第二轨道杆分别设置在圆柱形暗箱的第一侧壁位置和第二侧壁位置，所述第一侧壁位置和所述第二侧壁位置相对设置；

相应地，所述旋转轨道固定在所述第一轨道杆和第二轨道杆上，并在所述第一轨道杆和第二轨道杆的带动下进行升降移动。

第二方面，本发明还提供了一种基于如第一方面所述的除草剂抗性高光谱多维扫描系统的除草剂抗性高光谱多维扫描方法，包括：

将杂草放置在所述平移轨道上，控制所述平移轨道运载杂草进入所述圆柱形暗箱内；

调整所述升降轨道的升降高度，在每一升降高度下调整所述旋转轨道的旋转角度，使得所述高光谱相机从不同高度以及不同角度采集所述杂草叶片的光谱信息。

优选地，所述方法还包括：