[实用新型]清洁装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域，特别是涉及一种清洁装置。

背景技术

在光刻工艺中的浸液曝光(liquid immersion exposure)过程后，会有水滴形成在光刻胶上。这些水滴需要被去除，例如采用干燥过程来去除水滴。

但是，在采用干燥过程去除水滴时，水滴中的光刻胶或者是其他残留物有可能会沉淀下来，从而形成水斑缺陷(water mark defect)。

水斑缺陷会干扰原有光刻胶图形，不利于继续生产加工。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种清洁装置，有效清除水滴等残留物，并避免对待处理产品表面产生影响。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种清洁装置，用于清洗一表面，包括一本体，所述本体具有一工作区域，连接在所述本体上的第一工作部分和第二工作部分；所述第一工作部分向所述工作区域注入液体，所述第二工作部分从所述工作区域抽取液体。

可选的，对于所述的清洁装置，还包括连接在所述本体上的第三工作部分，所述第三工作部分对所述工作区域进行密封。

可选的，对于所述的清洁装置，所述第一工作部分设置在所述本体中央区域，所述第二工作部分包围所述第一工作部分，所述第三工作部分包围在所述第二工作部分的四周。

可选的，对于所述的清洁装置，所述本体呈圆柱形，上表面具有一突起以形成有一高面和一低面，所述第一工作部分设置在所述高面上，所述第二工作部分和第三工作部分设置在所述低面上。

可选的，对于所述的清洁装置，所述本体中具有多个输液通道，一部分所述输液通道的一端与第一工作部分相连接，另一部分所述输液通道的一端与第二工作部分相连接，所有所述输液通道的另一端连接所述工作区域。

可选的，对于所述的清洁装置，所述输液通道横截面为圆形，所述圆形的直径为10mm-30mm。

可选的，对于所述的清洁装置，所述第一工作部分包括注水泵和注水管，所述注水管连接一部分所述输液通道的一端和所述注水泵。

可选的，对于所述的清洁装置，所述第二工作部分包括抽水泵和抽水管，所述抽水管连接另一部分所述输液通道的一端和所述抽水泵。

可选的，对于所述的清洁装置，所述抽水管的数量为多个，排列成圆周状围绕所述第一工作部分。

可选的，对于所述的清洁装置，所述第三工作部分包括气泵和气管，所述气管连接所述气泵和所述本体。

可选的，对于所述的清洁装置，所述本体中具有输气通道，所述输气通道贯穿所述本体，所述输气通道的进气端与所述气管相连接，所述输气通道的出气端与所述工作区域间隔设置。

可选的，对于所述的清洁装置，所述输气通道的出气端呈环形。

可选的，对于所述的清洁装置，所述输气通道的出气端比进气端窄。

可选的，对于所述的清洁装置，所述工作区域为一凹陷，所述凹陷的开口面向所述表面。

可选的，对于所述的清洁装置，所述凹陷深度为8mm-20mm。

本实用新型提供的清洁装置，用于清洗一表面，包括一本体，所述本体具有一工作区域，连接在所述本体上的第一工作部分和第二工作部分；所述第一工作部分向所述工作区域注入液体，所述第二工作部分从所述工作区域抽取液体。那么，通过第一工作部分和第二工作部分，可以对待处理产品表面的液体进行融合和抽取，从而有效去除待处理产品上的液体等残留物，并且基本上避免对待处理产品表面的损坏。

借助于第三工作部分，对所述工作区域进行密封，能够进一步的提升液体等残留物去除效果，基本上达到完全去除。

附图说明

图1为晶圆上残留水滴的示意图；

图2为利用喷嘴在晶圆上喷洒去离子水的示意图；

图3为通过旋转去除晶圆上水分的示意图；

图4为本实用新型一实施例中的清洁装置的结构示意图；

图5为本实用新型一实施例中利用所述清洁装置去除液体的示意图。

具体实施方式

下面将结合示意图对本实用新型的清洁装置进行更详细的描述，其中表示了本实用新型的优选实施例，应该理解本领域技术人员可以修改在此描述的本实用新型，而仍然实现本实用新型的有利效果。因此，下列描述应当被理解为对于本领域技术人员的广泛知道，而并不作为对本实用新型的限制。