[实用新型]磁流变三维抛光装置有效

专利信息
申请号: 201720042738.3 申请日: 2017-01-13
公开(公告)号: CN206445613U 公开(公告)日: 2017-08-29
发明(设计)人: 吕鸿图;施武助;徐维浓;向定艾 申请(专利权)人: 昆山纳诺新材料科技有限公司
主分类号: B24B1/00 分类号: B24B1/00;C09G1/02
代理公司: 北京铭硕知识产权代理有限公司11286 代理人: 杨敏,金玉兰
地址: 215300 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 流变 三维 抛光 装置
【权利要求书】:

1.一种磁流变三维抛光装置,其特征在于,包含:

抛光容器,具有容置空间,且所述容置空间容置抛光液及待抛光的工件;以及

磁场发生器,所述抛光容器设置于所述磁场发生器上,且与所述磁场发生器同步旋转,其中转速为0至300rpm。

2.如权利要求1所述的磁流变三维抛光装置,其特征在于,所述磁场发生器所产生的磁场均匀分布于所述容置空间,且离所述抛光容器的表面的垂直高度为6~10cm处的磁场强度不低于0.2T。

3.如权利要求1所述的磁流变三维抛光装置,其特征在于,更包含控制模块,所述控制模块电性连接所述磁场发生器,以控制抛光时间、磁场大小、磁场旋转方向和转速。

4.如权利要求1所述的磁流变三维抛光装置,其特征在于,更包含抛光夹持模块,所述抛光夹持模块包含主轴及夹具,所述主轴具有多个位移自由度,所述夹具可自转地连接于所述主轴,所述夹具配置以固定所述待抛光的工件。

5.如权利要求4所述的磁流变三维抛光装置,其特征在于,更包含控制模块,所述控制模块电性连接所述抛光夹持模块,以控制所述抛光夹持模块的运动轨迹。

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