[实用新型]磁流变三维抛光装置

说明书

技术领域

本实用新型是有关于一种抛光的技术领域，特别是关于一种抛光容器和磁场发生器可以一起以预定速度旋转的磁流变三维抛光装置。

背景技术

随着3D打印技术和MIM(金属粉末注射成型)等一体成型技术及数控技术的发展，许多产品的外观件越来越多为三维结构的一体件，因而对后段的表面光整加工技术提出了更高的要求。同时，许多产品的外观件不仅需要整体达到很均匀的表面效果和很高的表面光洁度，如手机、手表外观等，而且需要比较精确的控制去除量，以免破坏保护层(如阳极后抛光需要不破坏阳极层)。因此开发出能实现3D抛光的非接触式抛光技术变得越来越重要。

磁流变抛光技术是利用磁流变抛光液在磁场中的流变性对工件进行抛光，与数控技术配合能精确控制去除量，且能实现纳米级的表面光洁度，是一种能实现整体抛光的非接触式抛光技术，但目前商用的磁流变抛光设备主要作为一种超精密加工技术在精密光学领域特别是非球面透镜的加工中得到应用。

现有技术也有公布适合3D形状抛光的磁流变抛光装置，(专利号：CN201510793529.8)，但存在以下不足：1)所述装置的磁场是固定的，实际抛光过程中，必须让工件通过机械系统的带动才能使工件与抛光液产生相对运动从而实现抛光，抛光效率不高；2)虽然上述专利的抛光机械系统能通过公转、自转和摇摆保证工件有两个自由度的运动，但在抛光复杂结构的三维工件时，会因为运动轨迹单一导致整体抛光不均匀；同时，工件的安装角度的微小变化会对抛光效果产生较大影响，在多工作打磨的时候，需要每个工位都人为调整角度，操作复杂、效率不高。

实用新型内容

综观前所述，本实用新型的发明人经研究，设计了一种具磁流变三维抛光装置，以针对现有技术的缺失加以改善，进而增进产业上的实施利用。

有鉴于上述现有技术的问题，本实用新型的目的就是在于提供一种磁流变三维抛光装置，以改善上述现有技术所产生的问题。

根据本实用新型的目的，提供一种磁流变三维抛光装置，其包含抛光容器及磁场发生器。其中，抛光容器具有容置空间，且容置空间容置抛光液及待抛光的工件。抛光容器设置于磁场发生器上，且与磁场发生器同步旋转，其中转速为0至300RPM。

优选地，磁场发生器所产生的磁场均匀分布于容置空间，且离抛光容器的表面的垂直高度为6～10cm处的磁场强度不低于0.2T。

优选地，更包含控制模块，控制模块电性连接磁场发生器，以控制抛光时间、磁场大小、磁场旋转方向和转速。

优选地，更包含抛光夹持模块，抛光夹持模块包含主轴及夹具，主轴具有多个位移自由度，夹具可自转地连接于主轴，夹具配置以固定工件。

优选地，更包含控制模块，控制模块电性连接抛光夹持模块，以控制抛光夹持模块的运动轨迹。

本实用新型的磁流变三维抛光装置，其能克服现有技术的磁流变抛光装置抛光效率不高，在抛光形状复杂的三维工件时抛光效果不均匀，操作复杂的缺陷。

以下将以具体的实施例配合所附的附图详加说明本实用新型的技术特征，以使所属技术领域的技术人员可易于了解本实用新型的目的、技术特征、及其优点。

附图说明

图1为本实用新型的磁流变三维抛光装置的方块示意图。

图2为本实用新型的磁流变三维抛光装置的结构示意图。

图3为本实用新型的磁流变三维抛光装置的磁流变抛光液的制备流程图。

符号说明

1：磁流变三维抛光装置

10：抛光容器

11：容置空间

20：磁场发生器

30：抛光夹持模块

31：主轴

32：夹具

40：控制模块

8：抛光液

9：工件

S1～S5：流程

具体实施方式

本实用新型的技术特征、内容与优点及其所能达成的技术效果，配合附图并以实施例的表达形式详细说明如下，而其中所使用的附图，其主旨仅为示意及辅助说明书之用，未必为本实用新型实施后的真实比例与精准配置，故不应就所附的附图的比例与配置关系解读、局限本实用新型于实际实施上的权利范围，合先叙明。

本实用新型提供了适合于加工复杂三维形状、加工效率高的磁流变抛光装置，具体包括技术上相互关联(有相同或相应必要技术特征)的可旋转磁场的磁流变抛光装置和与相配套的磁流变抛光液。以下将参照相关附图，说明依本实用新型的磁流变三维抛光装置的实施例，为使便于理解，下述实施例中的相同元件以相同的符号标示来说明。