[实用新型]垃圾填埋场覆盖膜上高气量填埋气体处大漏洞的修补结构有效

专利信息
申请号: 201720077819.7 申请日: 2017-01-20
公开(公告)号: CN206500424U 公开(公告)日: 2017-09-19
发明(设计)人: 周晓晖;刘宁;徐葵;罗磊;王磊 申请(专利权)人: 上海胜义环境科技有限公司
主分类号: B09B1/00 分类号: B09B1/00
代理公司: 深圳市中知专利商标代理有限公司44101 代理人: 张学群,郭爱青
地址: 201100 上海市*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 垃圾 填埋场 覆盖 膜上高 气量 气体 漏洞 修补 结构
【权利要求书】:

1.一种垃圾填埋场覆盖膜上高气量填埋气体处大漏洞的修补结构,其特征在于:包括带有漏洞(21)的覆盖膜(20)、胶布(30)、修补膜(40)以及至少一个横截面为圆环状的气体阻隔墙(50);气体阻隔墙(50)以漏洞(21)为圆心可拆搬地设置于覆盖膜(20)上,所述胶布(30)、修补膜(40)设置于最内层的气体阻隔墙(50)所围成的圆形区域内;

阻止垃圾堆体(10)产生的填埋气体流动到漏洞(21)处的所述气体阻隔墙(50)由上下叠置的两层砂袋圈组成,每层砂袋圈由若干个砂袋(51)以覆盖膜(20)上待修补的漏洞(21)为圆心、依次首尾密切相接成圆形,最内层的气体阻隔墙(50)的内径为1~1.5米,多个气体阻隔墙(50)以漏洞(21)为圆心呈同心圆分布;

防止填埋气体自漏洞(21)处溢出的胶布(30)以漏洞(21)为中心完全覆盖漏洞(21)地粘贴覆盖膜(20)上;

所述修补膜(40)以漏洞(21)为中心完全覆盖胶布(30)地密封焊接在覆盖膜(20)上,修补膜边缘离漏洞外缘之间的距离大于0.3m。

2.如权利要求1所述的垃圾填埋场覆盖膜上高气量填埋气体处大漏洞的修补结构,其特征在于:上层砂袋圈与下层砂袋圈的砂袋接缝处上下错开地设置。

3.如权利要求2所述的垃圾填埋场覆盖膜上高气量填埋气体处大漏洞的修补结构,其特征在于:所述砂袋(51)采用25kg标准袋装填满中砂。

4.如权利要求3所述的垃圾填埋场覆盖膜上高气量填埋气体处大漏洞的修补结构,其特征在于:在最内层的气体阻隔墙(50)外围1米处设置第二道气体阻隔墙(50),第二道气体阻隔墙(50)与第一道气体阻隔墙(50)为以漏洞(21)为圆心的同心圆环。

5.如权利要求1~4任一项所述的垃圾填埋场覆盖膜上高气量填埋气体处大漏洞的修补结构,其特征在于:所述覆盖膜(20)、修补膜(40)为1.5mm~2.0mm的HDPE膜;所述胶布(30)为3M粘胶和1.0mm厚光面膜的组合的强力胶布。

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