[实用新型]清洗系统及其化学气相沉积设备

权利要求书

1.一种清洗系统，用于真空管道清洗，其特征在于，所述清洗系统包括：

用于检测所述真空管道内沉积物含量的检测装置，设置于所述真空管道上；

用于将能与所述沉积物反应的清洁物质注入所述真空管道的离化装置，连接所述真空管道；

用于抽吸所述真空管道的抽吸装置，连接所述真空管道；以及

用于在沉积物的含量超过预设上限值时切断所述真空管道的开关装置，设置于所述真空管道上。

2.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，还包括与所述检测装置、离化装置、抽吸装置以及开关装置通讯连接的控制装置，所述控制装置用于控制所述开关装置切断所述真空管道，以及用于控制所述离化装置和所述抽吸装置开启。

3.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，所述真空管道包括并联设置的多个真空管道单元，所述检测装置设置于至少一个真空管道单元上，所述离化装置和抽吸装置对应连接所述至少一个真空管道单元；其中，所述开关装置用于切断所述至少一个真空管道单元并实现剩余真空管道单元中至多一个真空管道单元的连接。

4.如权利要求3所述的清洗系统，其特征在于，所述清洗系统还包括与所述至少一个真空管道单元连接的清扫管道，通过所述清扫管道将清洁气体注入所述至少一个真空管道单元。

5.如权利要求3所述的清洗系统，其特征在于，与所述至少一个真空管道单元连接的所述离化装置为多个，所述抽吸装置通过多个抽吸管路与所述至少一个真空管道单元连接。

6.如权利要求3所述的清洗系统，其特征在于，所述至少一个真空管道单元上设置有多个检测装置。

7.如权利要求1所述的清洗系统，其特征在于，所述清洁物质为氟自由基，所述氟自由基与含硅元素的所述沉积物反应生成挥发性物质。

8.一种化学气相沉积设备，其特征在于，包括沉积腔、真空管道以及真空泵；所述真空管道的一端连接所述沉积腔，另一端连接所述真空泵，且还包括如权利要求1至7中任一项所述的清洗系统。

9.如权利要求8所述的化学气相沉积设备，其特征在于，所述真空管道包括并联设置的两个真空管道单元。