[实用新型]一种坩埚有效
| 申请号： | 201720105076.X | 申请日： | 2017-01-24 |
| 公开（公告）号： | CN206396318U | 公开（公告）日： | 2017-08-11 |
| 发明（设计）人： | 全威;吴长晏 | 申请（专利权）人： | 京东方科技集团股份有限公司 |
| 主分类号： | C23C14/24 | 分类号： | C23C14/24 |
| 代理公司： | 北京同达信恒知识产权代理有限公司11291 | 代理人： | 黄志华 |
| 地址： | 100015 *** | 国省代码： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 坩埚 | ||
1.一种坩埚，其特征在于，包括坩埚本体，其中：
所述坩埚本体包括第一锅体和多个第二锅体，每个第二锅体的体积小于所述第一锅体；所述第一锅体具有开口和与所述开口相对的底面，每个第二锅体的一端与所述第一锅体的底面连接，且每个第二锅体的内部与所述第一锅体内部连通。
2.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，还包括设置于每个第二锅体的外部的加热装置。
3.根据权利要求2所述的坩埚，其特征在于，所述加热装置包括设置于每个第二锅体外侧的电热套。
4.根据权利要求2所述的坩埚，其特征在于，所述加热装置包括设置于每个第二锅体外侧的电热丝。
5.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，还包括设置于每个第二锅体外部的制冷装置。
6.根据权利要求5所述的坩埚，其特征在于，所述制冷装置包括设置于每个第二锅体外部的冷媒管路。
7.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，沿所述第一锅体的底面到开口的方向，所述第一锅体的与所述底面平行的截面的面积逐渐增大。
8.根据权利要求7所述的坩埚，其特征在于，所述第一锅体为圆台状结构，且所述第一锅体的开口所在一端的直径大于所述第一锅体的底面所在一端的直径。
9.根据权利要求1所述的坩埚，其特征在于，所述坩埚本体还具有盖合所述第一锅体的开口的盖板，所述盖板上设有多个蒸镀孔。
10.根据权利要求9所述的坩埚，其特征在于，所述多个蒸镀孔在所述盖板上阵列分布。
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