[实用新型]一种表面覆膜的双面单晶硅片

权利要求书

1.一种表面覆膜的双面单晶硅片，包括硅片基体（1），其特征在于，所述硅片基体（1）的两侧面均设置有弹性保护层（5），所述弹性保护层（5）包括基体强化层（6）和光学胶弹性层（7），所述光学胶弹性层（7）粘接在硅片基体（1），所述基体强化层（6）粘接在光学胶弹性层（7）远离硅片基体（1）一侧，所述基体强化层（6）远离光学胶弹性层（7）的一侧设置有增透层（4），所述增透层（4）远离光学胶弹性层（7）的一侧设置有钢化玻璃层（3），所述钢化玻璃层（3）远离钢化玻璃层（3）的一侧设置有陷光层（2）。

2.根据权利要求1所述的一种表面覆膜的双面单晶硅片，其特征在于，所述陷光层（2）为透明玻璃，其表面成矩阵状设置有棱台形减反射凸块（10）。

3.根据权利要求1所述的一种表面覆膜的双面单晶硅片，其特征在于，所述增透层（4）包括氧化硅层（8）和氧化锆层（9），氧化硅层（8）和氧化锆层（9）的数量为均不少于两层，且氧化硅层（8）和氧化锆层（9）自上至下交替设置。