[实用新型]一种表面覆膜的双面单晶硅片有效

专利信息
申请号: 201720142223.0 申请日: 2017-02-16
公开(公告)号: CN206441742U 公开(公告)日: 2017-08-25
发明(设计)人: 周士杰;陈圣铁 申请(专利权)人: 温州隆润科技有限公司
主分类号: H01L31/0216 分类号: H01L31/0216;H01L31/0236;H01L31/048
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 325000 浙江省温州市*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 表面 双面 单晶硅
【说明书】:

技术领域

实用新型涉及硅片技术领域,尤其涉及一种表面覆膜的双面单晶硅片。

背景技术

单晶硅片常用于制造半导体器件、太阳能电池等。用高纯度的多晶硅在单晶炉内拉制而成。但是现有的太阳能电池上的单晶硅片往往设计成单面接受光照的结构,极大的制约了单晶硅片作为太阳能组件时的光电转换效率,并且单晶硅片在安装的过程中容易发生碎裂。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了解决现有技术中存在单面接受光照、光电转换效率低的缺点,而提出的一种表面覆膜的双面单晶硅片。

为了实现上述目的,本实用新型采用了如下技术方案:

设计一种表面覆膜的双面单晶硅片,包括硅片基体,所述硅片基体的两侧面均设置有弹性保护层,所述弹性保护层包括基体强化层和光学胶弹性层,所述光学胶弹性层粘接在硅片基体,所述基体强化层粘接在光学胶弹性层远离硅片基体一侧,所述基体强化层远离光学胶弹性层的一侧设置有增透层,所述增透层远离光学胶弹性层的一侧设置有钢化玻璃层,所述钢化玻璃层远离钢化玻璃层的一侧设置有陷光层。

优选的,所述陷光层为透明玻璃,其表面成矩阵状设置有棱台形减反射凸块。

优选的,所述增透层包括氧化硅层和氧化锆层,氧化硅层和氧化锆层的数量为均不少于两层,且氧化硅层和氧化锆层自上至下交替设置。

本实用新型提出的一种表面覆膜的双面单晶硅片,有益效果在于:通过在硅片基体上设置陷光层和增透层,使得该硅片作为太阳能组件单位面积内能够与更多的光线接触,提升了该硅片作为太阳能组件时的转换效率,同时在双面单晶硅片上设置有钢化玻璃层、弹性保护层和基体强化层,使得该双面单晶硅片的结构强度更高,在安装时不易发生碎裂。

附图说明

图1为本实用新型提出的一种表面覆膜的双面单晶硅片的截面图。

图中:1硅片基体、2陷光层、3钢化玻璃层、4增透层、5弹性保护层、6基体强化层、7光学胶弹性层、8氧化硅层、9氧化锆层、10减反射凸块。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图,对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述,显然,所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例,而不是全部的实施例。

参照图1,一种表面覆膜的双面单晶硅片,包括硅片基体1,其特征在于,硅片基体1的两侧面均设置有弹性保护层5,弹性保护层5包括基体强化层6和光学胶弹性层7,光学胶弹性层7粘接在硅片基体1,基体强化层6粘接在光学胶弹性层7远离硅片基体1一侧,基体强化层6远离光学胶弹性层7的一侧设置有增透层4,增透层4远离光学胶弹性层7的一侧设置有钢化玻璃层3,钢化玻璃层3远离钢化玻璃层3的一侧设置有陷光层2。

陷光层2为透明玻璃,其表面成矩阵状设置有棱台形减反射凸块10,增透层4包括氧化硅层8和氧化锆层9,氧化硅层8和氧化锆层9的数量为均不少于两层,且氧化硅层8和氧化锆层9自上至下交替设置,通过在硅片基体1上设置陷光层2和增透层4,使得该硅片作为太阳能组件时单位面积内能够与更多的光线接触,提升了该硅片作为太阳能组件时的转换效率,同时在双面单晶硅片上设置有钢化玻璃层3、弹性保护层5和基体强化层6,使得该双面单晶硅片的结构强度更高,在安装时不易发生碎裂。

以上所述,仅为本实用新型较佳的具体实施方式,但本实用新型的保护范围并不局限于此,任何熟悉本技术领域的技术人员在本实用新型揭露的技术范围内,根据本实用新型的技术方案及其实用新型构思加以等同替换或改变,都应涵盖在本实用新型的保护范围之内。

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