[实用新型]一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置

权利要求书

1.一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，包括真空室壁(1)和靶体(2)，所述靶体(2)设在真空室壁(1)上面，其特征在于：还包括固定座(3)、机架(4)、螺杆(5)、活动螺杆座(6)、密封圈(7)、电机(8)、密封端盖(9)、活动座一(10)、连接块一(11)、连接板(12)、导轨一(13)、活动座二(14)、连接块二(15)、支撑架(16)、隔离支架(17)、导轨二(18)和侧隔离网(19)；

所述机架(4)位于靶体(2)右侧，所述机架(4)固定连接在真空室壁(1)上面；

所述固定座(3)固定连接在机架(4)左上侧；

所述螺杆(5)活动连接在机架(4)左上侧内部，所述螺杆(5)右端与电机(8)左侧输出轴固定连接，所述螺杆(5)左端活动连接在固定座(3)右侧，所述螺杆(5)上面活动连接有活动螺杆座(6)；

所述电机(8)固定连接在机架(4)右侧内部，所述电机(8)左侧输出轴外圆与所述机架(4)右侧孔之间设有密封圈(7)；

所述密封端盖(9)固定连接在机架(4)右侧内部入口处；

所述导轨一(13)设在机架(4)底部；

所述活动座一(10)活动连接在导轨一(13)右侧，所述活动座一(10)底部固定连接有连接块一(11)；

所述活动座二(14)位于活动座一(10)左侧，所述活动座二(14)活动连接在导轨一(13)上，所述活动座二(14)底部固定连接有连接块二(15)，所述活动座二(14)上面固定连接在活动螺杆座(6)底部；

所述连接板(12)上面右侧固定连接在连接块一(11)底部，所述上面左侧固定连接在连接块二(15)，所述连接板(12)左端固定连接有支撑架(16)；

所述支撑架(16)上面固定连接有隔离支架(17)；

所述侧隔离网(19)位于靶体(2)左侧，所述侧隔离网(19)固定连接在导轨二(18)左端；

所述导轨二(18)位于靶体(2)前后两侧，所述导轨二(18)固定连接在真空室壁(1)上面，所述导轨二(18)上面左右活动连接有隔离支架(17)。

2.根据权利要求1所述的一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，其特征在于：所述电机(8)为步进电机。

3.根据权利要求1所述的一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，其特征在于：所述隔离支架(17)侧面和底面均设有隔离网，且隔离网由不锈钢材料制成。

4.根据权利要求1所述的一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，其特征在于：所述侧隔离网(19)由不锈钢材料制成。