[实用新型]一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置

说明书

技术领域：

本实用新型涉及真空镀膜技术领域，特别涉及一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置。

背景技术：

目前的设备多弧靶体不能满足客户一些高光，镜光货品的生产需求，由于原多弧靶体离子溅射量太大，弧蒸发过程非常剧烈，除了发射出电子、离子和少量中性原子外，还有微熔池内熔融态金属的喷发。喷射出来的液滴的直径能达到几十微米，这些液滴会以“大颗粒”的形式沉积在膜层中，减少膜层致密，并使薄膜表面粗糙化，这种表面粗糙化体现在PVD产品上的就是我们所说的发雾，白朦的现象。单单控制靶电流也无法满足客户对产品的生产要求，使产品产生发雾，白朦的现象，对品质造成影响。

实用新型内容：

本实用新型的目的就在于为了解决上述问题而提供一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，解决了背景技术中提到的问题。

为了解决上述问题，本实用新型提供了一种技术方案：一种真空镀膜炉内弧源遮蔽装置，包括真空室壁和靶体，所述靶体设在真空室壁上面，其创新点在于：还包括固定座、机架、螺杆、活动螺杆座、密封圈、电机、密封端盖、活动座一、连接块一、连接板、导轨一、活动座二、连接块二、支撑架、隔离支架、导轨二和侧隔离网；所述机架位于靶体右侧，所述机架固定连接在真空室壁上面；所述固定座固定连接在机架左上侧；所述螺杆活动连接在机架左上侧内部，所述螺杆右端与电机左侧输出轴固定连接，所述螺杆左端活动连接在固定座右侧，所述螺杆上面活动连接有活动螺杆座；所述电机固定连接在机架右侧内部，所述电机左侧输出轴外圆与所述机架右侧孔之间设有密封圈；所述密封端盖固定连接在机架右侧内部入口处；所述导轨一设在机架底部；所述活动座一活动连接在导轨一右侧，所述活动座一底部固定连接有连接块一；所述活动座二位于活动座一左侧，所述活动座二活动连接在导轨一上，所述活动座二底部固定连接有连接块二，所述活动座二上面固定连接在活动螺杆座底部；所述连接板上面右侧固定连接在连接块一底部，所述上面左侧固定连接在连接块二，所述连接板左端固定连接有支撑架；所述支撑架上面固定连接有隔离支架；所述侧隔离网位于靶体左侧，所述侧隔离网固定连接在导轨二左端；所述导轨二位于靶体前后两侧，所述导轨二固定连接在真空室壁上面，所述导轨二上面左右活动连接有隔离支架。

作为优选，所述电机为步进电机。

作为优选，所述隔离支架侧面和底面均设有隔离网，且隔离网由不锈钢材料制成。

作为优选，所述侧隔离网由不锈钢材料制成。

本实用新型的有益效果：本实用新型具有结构合理简单、生产成本低、安装方便，功能齐全，对于一些高光，镜光货品的生产时，首先启动电机从而使螺杆旋转带动活动螺杆座左移，而活动螺杆座左移则通过活动座二和连接块二带动连接板和支撑架左移，而支撑架的左移则使隔离支架中的隔离网罩住靶体，从而减少产品表面上的金属离子，保障货品的光泽度，也就进一步的大大减少了光明产品的发朦，发雾现象，使此类产品品质得到了保障，满足客户的要求。

附图说明：

为了易于说明，本实用新型由下述的具体实施及附图作以详细描述。

图1为本实用新型的结构示意图。

图2为本实用新型的局部俯视图。

图3为隔离支架的侧视图。

1-真空室壁；2-靶体；3-固定座；4-机架；5-螺杆；6-活动螺杆座；7-密封圈；8-电机；9-密封端盖；10-活动座一；11-连接块一；12-连接板；13-导轨一；14-活动座二；15-连接块二；16-支撑架；17-隔离支架；18-导轨二；19-侧隔离网。

具体实施方式：