[实用新型]一种能够带动太阳能电池硅片镀膜时转动的镀膜炉有效
申请号: | 201720162917.0 | 申请日: | 2017-02-22 |
公开(公告)号: | CN206505938U | 公开(公告)日: | 2017-09-19 |
发明(设计)人: | 何达能;方结彬;陈刚 | 申请(专利权)人: | 广东爱康太阳能科技有限公司 |
主分类号: | H01L31/18 | 分类号: | H01L31/18;H01L21/67 |
代理公司: | 广州知友专利商标代理有限公司44104 | 代理人: | 高文龙 |
地址: | 528137 广东省佛*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 能够 带动 太阳能电池 硅片 镀膜 转动 | ||
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池的镀膜设备,具体是指一种能够带动太阳能电池硅片镀膜时转动的镀膜炉。
背景技术
在光伏太阳能行业,太阳能电池的制造要经过制绒,扩散,刻蚀,镀膜,丝网印刷和烧结六大工序。其中,镀膜工序的目的是采用等离子增强化学气相沉积(PECVD)的方法在硅片正面镀氮化硅膜,减少太阳光反射以及对硅片表面起钝化作用。
目前,光伏行业大多采用管式PECVD对硅片镀膜,镀膜管为圆柱体,镀膜管的顶部设置有多个工艺气体的喷气口,用于给硅片镀膜,石墨舟为长方体,位于喷气口的下方,用于承载硅片。在镀膜过程中,石墨舟在镀膜管里静止不动。太阳能电池的蓝色外观就是在镀膜这一道工序形成,由于行业竞争激烈,客户不仅关注电池产品的光电转换效率,也更加重视产品的外观。
因此,如何获得均匀性好的PECVD镀膜,也成为行业技术人员在着重解决的问题。
实用新型内容
本实用新型的目的是提供一种能够带动太阳能电池硅片镀膜时转动的镀膜炉,该镀膜炉采用旋转石墨舟,带动电池硅片镀膜时转动,保证镀膜过程中硅片能与工艺气体充分接触,提高硅片的镀膜均匀性,从而提高电池产品的外观合格率和光电转换效率。
本实用新型的上述目的通过如下的技术方案来实现的:一种能够带动太阳能电池硅片镀膜时转动的镀膜炉,包括炉体和石墨舟,炉体的顶部设置有多个工艺气体的喷气口,用于给硅片镀膜,石墨舟位于喷气口的下方,用于承载硅片,其特征在于:所述镀膜炉还具有旋转台,所述旋转台位于炉体的中心位置处,所述石墨舟承托在所述旋转台上,所述旋转台在旋转过程中能够带动石墨舟同步转动,保证硅片与工艺气体充分接触,从而提高硅片的镀膜均匀性。
本实用新型的镀膜炉采用旋转台来带动石墨舟转动,从而保证在镀膜过程中硅片能与工艺气体充分接触,提高硅片的镀膜均匀性,以提高电池产品的外观合格率和光电转换效率。
本实用新型中,所述旋转台通过电机驱动。
所述旋转台与电机之间通过带轮传动机构或链轮传动机构相连接,或者电机竖向设置,旋转台直接套装在电机的电机轴上。
本实用新型中,所述喷气口为2~10个。
本实用新型中,所述炉体为圆柱体或截面为四边形或五边形或六边形的立方体。
本实用新型中,所述石墨舟为长方体或圆柱体或截面为四边形或五边形或六边形的立方体。
与现有技术相比,本实用新型采用旋转台,旋转台承载石墨舟,旋转台在旋转过程中能够带动石墨舟同步转动,由此保证在镀膜过程中,硅片能与工艺气体充分接触,提高硅片的镀膜均匀性,从而提高电池产品的外观合格率和光电转换效率。
附图说明
下面结合附图和具体实施方式对本实用新型作进一步详细说明。
图1是本实用新型能够带动太阳能电池硅片镀膜时转动的镀膜炉的整体结构示意图。
附图标记说明
1、炉体;2、喷气口;3、石墨舟;4、旋转台。
具体实施方式
如图1所示的一种能够带动太阳能电池硅片镀膜时转动的镀膜炉,包括炉体1、石墨舟3和旋转台4,炉体1为圆柱体的石英结构,具有中空的炉膛,炉体1的顶部设置有四个工艺气体的喷气口2,用于给硅片镀膜,石墨舟3也为长方体,石墨舟3位于喷气口2的下方,用于承载硅片,旋转台4位于炉体1的中心位置处,石墨舟3承托在旋转台4上,旋转台4在旋转过程中能够带动石墨舟3同步转动,保证硅片与工艺气体充分接触,从而提高硅片的镀膜均匀性。
本实施例中,旋转台4通过电机驱动,具体结构为电机也位于炉膛内,且竖向设置,旋转台4直接套装在电机的电机轴上,通过电机带动旋转台4转动。
旋转台4也可以通过传动机构与电机相连,通过电机带动传动机构进而带动旋转台4转动,比如旋转台4与电机之间通过带轮传动机构或链轮传动机构相连接,此时旋转台4具有插装在炉体1的转动轴,旋转台4直接通过皮带与电机的电机轴相连接,通过皮带传递电机的动力,或者在旋转台侧面设置从动齿轮,电机的电机轴上套装有主动齿轮,主动齿轮与从动齿轮之间通过链轮相连接,带动旋转台4绕转动轴转动。
本实施例中,旋转台4的转动速度还可以通过调整电机的转速来进行调整,更好的保证硅片的镀膜均匀性。
作为本实施例的变换,喷气口2的数量也可以为2~10之间取值,炉体1也可以采用截面为四边形或五边形或六边形的立方体,石墨舟3也可以采用圆柱体或截面为四边形或五边形或六边形的立方体。
本实用新型的上述实施例并不是对本实用新型保护范围的限定,本实用新型的实施方式不限于此,凡此种种根据本实用新型的上述内容,按照本领域的普通技术知识和惯用手段,在不脱离本实用新型上述基本技术思想前提下,对本实用新型上述结构做出的其它多种形式的修改、替换或变更,均应落在本实用新型的保护范围之内。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的