[实用新型]一种MOCVD设备的清洁装置有效
申请号: | 201720183322.3 | 申请日: | 2017-02-28 |
公开(公告)号: | CN206529522U | 公开(公告)日: | 2017-09-29 |
发明(设计)人: | 肖怀曙 | 申请(专利权)人: | 惠州比亚迪实业有限公司 |
主分类号: | C23C16/44 | 分类号: | C23C16/44;B08B7/00 |
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地址: | 516083*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 mocvd 设备 清洁 装置 | ||
1.一种MOCVD设备的清洁装置,其特征在于,包括:
支架;
摆动电机,所述摆动电机设置在支架上;
激光发生器,所述激光发生器与所述摆动电机的输出轴连接,以使激光发生器在摆动电机驱动下在竖直方向上转动。
2.如权利要求1所述的MOCVD设备的清洁装置,其特征在于,还包括旋转电机,所述旋转电机设置在所述支架的顶端以驱动支架旋转。
3.如权利要求2所述的MOCVD设备的清洁装置,其特征在于,所述支架为圆柱状,所述摆动电机设置在支架的底端。
4.如权利要求3所述的MOCVD设备的清洁装置,其特征在于,所述支架的底端设有两个支撑部,所述支撑部设有通孔,所述摆动电机设置在支撑部的一侧,摆动电机的输出轴穿过所述通孔并与所述激光器相连。
5.如权利要求2所述的MOCVD设备的清洁装置,其特征在于,所述摆动电机和旋转电机为步进电机。
6.如权利要求1或2所述的MOCVD设备的清洁装置,其特征在于,还包括驱动控制器,用于控制所述激光发生器的输出功率。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的