[实用新型]立式磁控溅射镀膜用的偏压结构及其夹持装置有效

专利信息
申请号: 201720409490.X 申请日: 2017-04-18
公开(公告)号: CN206624911U 公开(公告)日: 2017-11-10
发明(设计)人: 李国伟;李青;任书明;陈发伟;李兆廷 申请(专利权)人: 东旭科技集团有限公司;东旭集团有限公司
主分类号: C23C14/35 分类号: C23C14/35;C23C14/50
代理公司: 北京英创嘉友知识产权代理事务所(普通合伙)11447 代理人: 陈庆超,桑传标
地址: 100070 北京市丰台区*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 立式 磁控溅射 镀膜 偏压 结构 及其 夹持 装置
【说明书】:

技术领域

本公开涉及镀膜技术领域,具体地,涉及一种立式磁控溅射镀膜用的偏压结构和使用该偏压结构的夹持装置。

背景技术

磁控溅射镀膜技术在玻璃行业的应用由来已久,其原理是应用在真空状态下,通入精确控制量的工艺气体,在强电磁场交互作用下产生电离,冲击阴极靶材,产生等离子体放电,靶材原料经辉光放电过程,并在磁场作用下高速飞向阳极过程中附着于待镀膜产品表面,与表面形成类似共价键结构的分子结合力,从而形成一层附着于产品表面的金属(或者非金属及其氧化物)膜层,该膜层的光学或电学效应或两者的综合效用可用于相关的领域。

在电子级镀膜领域,为避免靶材掉落及其他灰尘类物质落于产品表面,而形成膜层不良,多采用立式镀膜系统。

在立式连续镀膜系统中,需对要镀膜的物品放置于传送承载器上,并进行夹持固定,以满足连续生产的要求。

现有的物料承载器夹子系统的形式,存在与被夹持物料接触面积小,夹子夹持力度受镀膜系统内部温度升降变化影响大,对玻璃热胀冷缩尺寸变化适应能力差等问题,易造成玻璃破碎、掉片等问题,从而降低了镀膜产品的成品率,同时增大设备停机清理腔室内部及由于玻璃破损造成的设备零部件更换及检修频率,不适用于当前的例如大世代尺寸面板玻璃连续镀膜生产的需求。

实用新型内容

本公开的一个目的是提供一种立式磁控溅射镀膜用的偏压结构,该偏压结构与待镀膜基片的接触面积大,且能避免局部应力集中的问题,提高产品的成品率。

本公开的另一个目的是提供一种立式磁控溅射镀膜用的夹持装置,该夹持装置能够稳固地保持待镀膜基片大致处于竖直状态,且能提高待镀膜基片的成品率。

根据本公开的一个方面,本公开提供一种立式磁控溅射镀膜用的偏压结构,包括相对于待镀膜基片固定的一对安装座,设置于所述一对安装座之间的偏压部,设置于每个安装座和所述偏压部之间的扭簧,每个扭簧的第一端部相对于所述偏压部固定,第二端部相对于相应的所述安装座固定,以使得所述偏压部能够弹性偏压到所述待镀膜基片上,并且所述偏压部具有与所述待镀膜基片接触且相互间隔开的第一偏压面和第二偏压面。

可选地,每个安装座和所述偏压部开设有首尾相接且沿轴向延伸的第一凹槽,一对所述扭簧沿轴向对齐并分别嵌入到相应的所述第一凹槽中,所述安装座上还开设有沿轴向延伸且与每个第一凹槽相连通的第二凹槽,所述偏压结构还包括穿过所述偏压部上的转轴,该转轴穿过一对所述扭簧且两端分别嵌入到所述第二凹槽中。

可选地,所述转轴相对于所述偏压部固定,并且可转动地设置于所述第二凹槽中。

可选地,所述偏压部包括形成为沿垂直于所述轴向延伸的条形板本体,以及设置在该条形板本体上且沿轴向间隔设置的一对耳板,所述一对耳板套设于所述转轴上,并且所述条形板本体的位于所述一对耳板轴向的相对两侧分别形成有部分的所述第一凹槽。

可选地,所述条形板本体上形成有沿垂直于所述轴向延伸且与所述第一凹槽相连通的第三凹槽,所述安装座上形成有平行于所述第三凹槽且与所述第一凹槽相连通的第四凹槽,所述扭簧的第一端部嵌入并限位于所述第三凹槽中,所述扭簧的第二端部嵌入并限位于所述第四凹槽中。

可选地,所述偏压部还包括固定到所述条形板本体的远离所述转轴的端部上的压块,所述第一偏压面和第二偏压面形成于所述压块上。

可选地,所述压块的背离所述条形板本体的端面形成为朝向所述条形板本体凹陷的“几”字型结构,所述第一偏压面和第二偏压面分别形成于所述“几”字型结构的相对两端上。

可选地,所述压块由Vespel Polyimide(全芳香族聚酰亚胺树脂)制成。

可选地,所述扭簧为由铬镍铁基合金制成。

可选地,所述安装座由钛基合金制成。

根据本公开的另一方面,提供一种立式磁控溅射镀膜用的夹持装置,包括形成为回字形结构的固定支架,该回字形结构的内周壁上形成有沿周向延伸的L形止挡结构,所述回字形结构上还固定有本公开提供的立式磁控溅射镀膜用的偏压结构,其中,所述偏压部将所述待镀膜基片压紧到所述L形止挡结构中。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于东旭科技集团有限公司;东旭集团有限公司,未经东旭科技集团有限公司;东旭集团有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720409490.X/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code