[实用新型]一种烘干装置、光刻设备

说明书

技术领域

本实用新型涉及显示技术领域，尤其涉及一种烘干装置、光刻设备。

背景技术

在制备薄膜晶体管(英文：Thin Film Transistor；简称：TFT)阵列基板的过程中，需要经过涂覆光刻胶(英文名称：Photoresist，英文简称：PR)、前烘、曝光、显影和后烘(Hard Bake)等光刻工序。其中，后烘工序用于在高温下蒸发光刻胶中的溶剂，并提高光刻胶图案与基板之间的密着性。

通常，在如图1a所示的烘干设备(英文名称：Oven)中进行上述后烘工序。在后烘工序中，光刻胶内部的亚克力与苯(英文名称：Benzene)等成分在高温环境下会气化，气化形成的气体与腔室(英文名称：Chamber)10内的热风一起循环。

如图1b所示，在打开腔室门20，以将基板30，例如玻璃基板(英文名称：Glass)通过搬运机器人40(英文名称：Robot)传入或移出至腔室10内时，腔室10内热风会向外流出，上述气化形成的气体也会向腔室10外渗出，当该气体与外界的冷空气接触时，会迅速形成凝华物50，该凝华物50贴附在腔室门20上下两侧的腔室壁11上。当烘干设备长期使用时，腔室门20上下两侧的腔室壁11上会集中出现凝华物50。这样一来，如图1c所示，在基板30的传输过程中，上述凝华物50易掉落在基板30上，使得后烘工序形成的光刻胶受到污染，进而降低了通过后烘工序形成的基板30的良率。

实用新型内容

本实用新型的实施例提供一种烘干装置、光刻设备，用于降低烘干装置内的气体与外部空气接触的几率。

为达到上述目的，本实用新型的实施例采用如下技术方案：

本实用新型实施例的一方面，提供一种烘干装置，包括具有传送开口的腔室壁、以及可关合所述传送开口的腔室门，还包括：位于所述腔室壁与所述腔室门所围成的腔室内的气体循环导向件，所述气体循环导向件设置于所述传送开口位置处的上侧和/或下侧；所述气体循环导向件包括抽风器件，所述抽风器件用于将由所述气体循环导向件的气体入口进入的气体抽送至所述气体循环导向件的气体出口，所述气体循环导向件用于将所述传送开口位置处的气体导向至所述腔室内。

可选的，气体循环导向件还包括：设置在所述传送开口位置处上侧的第一气体循环管，所述第一气体循环管内设置有所述抽风器件；和/或，设置在所述传送开口位置处下侧的第二气体循环管，所述第二气体循环管内设置有所述抽风器件。

进一步的，所述第一气体循环管、所述第二气体循环管的出口尺寸小于入口尺寸。

可选的，所述第一气体循环管的出口朝向所述腔室的顶面，入口朝向所述腔室的底面；所述第二气体循环管的入口朝向所述腔室的顶面，出口朝向所述腔室的底面，或，所述第二气体循环管的入口朝向所述腔室的底面，出口背离具有所述传送开口的腔室侧壁。

可选的，所述第一气体循环管与所述第二气体循环管的入口宽度大于或等于所述传送开口高度的二分之一。

可选的，所述抽风器件为抽风风扇。

可选的，所述烘干装置还包括设置在所述腔室壁内的供热组件，所述供热组件包括导热件以及吹风风扇。

可选的，所述烘干装置还包括排风管道，所述腔室壁上设置有排风口，所述排风管道与所述排风口相连接。

可选的，所述烘干装置的一腔室壁上设置有多个传送开口，所述腔室门的个数为多个，所述一腔室门可关合一传送开口；其中，所述腔室壁与多个所述腔室门围成多个腔室。

本实用新型实施例的另一方面，提供一种光刻设备，包括如上所述的任一种烘干装置。

本实用新型实施例提供一种烘干装置、光刻设备，该烘干装置包括具有传送开口的腔室壁与可关合上述传送开口的腔室门，其中，上述腔室壁与腔室门围成腔室。该烘干装置还包括位于上述腔室内的气体循环导向件，该气体循环导向件设置在传送开口位置处的上侧和/或下侧，用于将传送开口位置处的气体导向至腔室内。进一步的，上述气体循环导向件包括抽风器件，该抽风器件用于将由气体循环导向件的气体入口进入的气体抽送至气体循环导向件的气体出口。

这样一来，采用上述烘干装置对光刻胶进行后烘时，当打开腔室门，将涂覆有光刻胶的基板通过搬运机器人由上述传送开口传入上述腔室内时，由于在传送开口位置的上侧(或者下侧、上下侧)设置有包括抽风器件的气体循环导向件，因此传送开口处的气体可以被抽风器件从气体循环导向件的气体入口抽送至气体出口，从而将传送开口处的气体导向至腔室内，进而减少了腔室内通过传送开口流向腔室外的气体的量，因此可以降低腔室内的气体与外界空气接触的几率。

附图说明