[实用新型]一种输出空气阻隔室

权利要求书

1.一种输出空气阻隔室，应用于对晶圆进行干法刻蚀的机台中，所述机台包括干法刻蚀的反应腔体、传送装置、输入空气阻隔室、输出空气阻隔室，所述输入空气阻隔室的一端与所述反应腔体连接，另一端与所述传送装置连接，所述输出空气阻隔室的一端与所述反应腔体连接，另一端与所述传送装置连接，其特征在于，所述输出空气阻隔室包括：

承托结构，设置于所述输出空气阻隔室中，用以水平的放置所述晶圆；

进气阀，设置于所述输出空气阻隔室的顶部，用以通过所述进气阀通入外部气体至所述输出空气阻隔室内；

加热装置，固定设置于所述输出空气阻隔室的内壁上，且位于所述承托结构的上方，并于所述进气阀连通；

出气阀，设置于所述输出空气阻隔室的底部；

所述出气阀连接有一气体泵，所述气体泵用以抽取所述输出空气阻隔室内多余的气体。

2.根据权利要求1所述的输出空气阻隔室，其特征在于，所述加热装置设置有多个出气口，多个所述出气口朝向于所述晶圆的放置位置。

3.根据权利要求2所述的输出空气阻隔室，其特征在于，所述出气口之间的间隔相同。

4.根据权利要求1所述的输出空气阻隔室，其特征在于，所述承托结构包括至少一对承托部，所述一对承托部分别相对设置于所述输出空气阻隔室的内壁上，用以水平的承托所述晶圆的边缘。

5.根据权利要求1所述的输出空气阻隔室，其特征在于，

还包括一真空传送装置，所述真空传送装置与所述反应腔体连接，所述输入空气阻隔室一端与所述真空传送装置连接，另一端与所述传送装置连接；

所述输出空气阻隔室一端与所述真空传送装置连接，另一端与所述传送装置连接。

6.根据权利要求1所述的输出空气阻隔室，其特征在于，所述输入空气阻隔室以及所述输出空气阻隔室的内径均大于所述晶圆的直径。

7.根据权利要求1所述的输出空气阻隔室，其特征在于，所述输入空气阻隔室以及所述输出空气阻隔室中均设置有一气体控制阀。

8.根据权利要求1所述的输出空气阻隔室，其特征在于，所述反应腔体还设置有一抽气阀，所述抽气阀用以连接一抽气设备。

9.根据权利要求1所述的输出空气阻隔室，其特征在于，所述机台还包括一晶圆放置盒，所述晶圆放置盒与所述传送装置连接，所述传送装置用以放置反应完成的所述晶圆。

10.根据权利要求1所述的输出空气阻隔室，其特征在于，所述进气阀通入的外部气体为氮气。