[实用新型]一种DFN2018‑6高密度框架有效

专利信息
申请号: 201720510285.2 申请日: 2017-05-10
公开(公告)号: CN206711890U 公开(公告)日: 2017-12-05
发明(设计)人: 罗天秀;樊增勇;崔金忠;李东;许兵;李宁;李超 申请(专利权)人: 成都先进功率半导体股份有限公司
主分类号: H01L23/495 分类号: H01L23/495
代理公司: 四川力久律师事务所51221 代理人: 王芸,熊晓果
地址: 611731 四川*** 国省代码: 四川;51
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 dfn2018 高密度 框架
【权利要求书】:

1.一种DFN2018-6高密度框架,包括板状结构的矩形框架,其特征在于,在框架上多个与DFN2018-6封装结构相适应的芯片安装部,每个芯片安装部设有4个引脚槽,所有引脚槽均延伸至芯片安装部边缘,每个所述引脚槽靠近芯片安装位置的槽宽相对于另一侧更大,且靠近芯片安装位置的引脚槽周围设置成半腐蚀结构,使每个引脚槽能安装2根引脚。

2.根据权利要求1所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述芯片安装部包括芯片支撑区和芯片散热区,在芯片支撑区两侧对称设有两个芯片散热区,所述芯片支撑区为半腐蚀结构。

3.根据权利要求1所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所有芯片安装部的长边与框架的长边或短边平行布置,所有引脚槽均设置于芯片安装部的一侧并延伸至边缘,芯片安装部的另一对称侧设有与切割道连通的连通槽。

4.根据权利要求1所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,在芯片安装部之间为切割部,所述切割部为横竖交错的切割道连筋,所述切割道连筋的宽度为0.1±0.05mm。

5.根据权利要求4所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述切割道连筋为半腐蚀结构。

6.根据权利要求4所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,在芯片安装部周围的四个角上还设有十字连筋,用于连接横竖交错设置的切割道连筋。

7.根据权利要求1-6之一所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述框架的边框部分的开孔处增加半腐蚀设计。

8.根据权利要求7所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述边框上也设有半腐蚀结构,为在边框面上设置的多个工字型半腐蚀区,多个所述工字型半腐蚀区在边框上间隔设置。

9.根据权利要求1-6之一所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述框架上设有单元分隔槽,所述单元分隔槽设置在框架中部,将框架均分为2个芯片安装单元。

10.根据权利要求9所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述框架长度为250±0.1mm,宽度为70±0.05mm,在每个芯片安装单元内均布置有27排、58列芯片安装部。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都先进功率半导体股份有限公司,未经成都先进功率半导体股份有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201720510285.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top