[实用新型]一种DFN2018‑6高密度框架有效
申请号: | 201720510285.2 | 申请日: | 2017-05-10 |
公开(公告)号: | CN206711890U | 公开(公告)日: | 2017-12-05 |
发明(设计)人: | 罗天秀;樊增勇;崔金忠;李东;许兵;李宁;李超 | 申请(专利权)人: | 成都先进功率半导体股份有限公司 |
主分类号: | H01L23/495 | 分类号: | H01L23/495 |
代理公司: | 四川力久律师事务所51221 | 代理人: | 王芸,熊晓果 |
地址: | 611731 四川*** | 国省代码: | 四川;51 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 dfn2018 高密度 框架 | ||
1.一种DFN2018-6高密度框架,包括板状结构的矩形框架,其特征在于,在框架上多个与DFN2018-6封装结构相适应的芯片安装部,每个芯片安装部设有4个引脚槽,所有引脚槽均延伸至芯片安装部边缘,每个所述引脚槽靠近芯片安装位置的槽宽相对于另一侧更大,且靠近芯片安装位置的引脚槽周围设置成半腐蚀结构,使每个引脚槽能安装2根引脚。
2.根据权利要求1所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述芯片安装部包括芯片支撑区和芯片散热区,在芯片支撑区两侧对称设有两个芯片散热区,所述芯片支撑区为半腐蚀结构。
3.根据权利要求1所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所有芯片安装部的长边与框架的长边或短边平行布置,所有引脚槽均设置于芯片安装部的一侧并延伸至边缘,芯片安装部的另一对称侧设有与切割道连通的连通槽。
4.根据权利要求1所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,在芯片安装部之间为切割部,所述切割部为横竖交错的切割道连筋,所述切割道连筋的宽度为0.1±0.05mm。
5.根据权利要求4所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述切割道连筋为半腐蚀结构。
6.根据权利要求4所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,在芯片安装部周围的四个角上还设有十字连筋,用于连接横竖交错设置的切割道连筋。
7.根据权利要求1-6之一所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述框架的边框部分的开孔处增加半腐蚀设计。
8.根据权利要求7所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述边框上也设有半腐蚀结构,为在边框面上设置的多个工字型半腐蚀区,多个所述工字型半腐蚀区在边框上间隔设置。
9.根据权利要求1-6之一所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述框架上设有单元分隔槽,所述单元分隔槽设置在框架中部,将框架均分为2个芯片安装单元。
10.根据权利要求9所述的DFN2018-6高密度框架,其特征在于,所述框架长度为250±0.1mm,宽度为70±0.05mm,在每个芯片安装单元内均布置有27排、58列芯片安装部。
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