[实用新型]一种去除表面氚污染的等离子体去污系统有效
| 申请号： | 201720523127.0 | 申请日： | 2017-05-12 |
| 公开（公告）号： | CN206716635U | 公开（公告）日： | 2017-12-08 |
| 发明（设计）人： | 谢云;杜阳;石正坤;杨勇;余卫国 | 申请（专利权）人： | 中国工程物理研究院核物理与化学研究所 |
| 主分类号： | B08B7/00 | 分类号： | B08B7/00 |
| 代理公司： | 中国工程物理研究院专利中心51210 | 代理人： | 翟长明,韩志英 |
| 地址： | 621999 四*** | 国省代码： | 四川;51 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 去除 表面 污染 等离子体 去污 系统 | ||
【权利要求书】：
1.一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特征在于：所述的等离子体去污系统包括通过气体输送管道顺序连接的等离子体系统（1）、密封罩（5）、在线监测装置（6）、过滤器（7）、阀门（8）、尾气后处理系统（9）；所述的密封罩（5）为密封的箱体，密封罩（5）内安装有去污头（2）、待去污物件（3），去污头（2）接收等离子体系统（1）通过气体输送管道输送的工作气体和等离子体系统（1）通过传输电缆输送的电流，在去污头（2）内激发产生等离子体引出作用在去污工作面上。
2.根据权利要求1所述的一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特征在于：所述的去污头（2）为单个去污头或多个去污头集成阵列组成。
3.根据权利要求1所述的一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特征在于：所述的去污头（2）的去污工作面为平面，平面朝下，待去污物件（3）放置在去污工作面的下方。
4.根据权利要求1所述的一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特征在于：所述的去污头（2）的去污工作面与待去污物件（3）之间的距离为0.5cm~2.0cm。
5.根据权利要求1所述的一种去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特征在于：所述的密封罩（5）内还安装有热电偶（4），用于测量待去污物件（3）的温度。
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