[实用新型]一种去除表面氚污染的等离子体去污系统

说明书

技术领域

本实用新型属于辐射防护与环境保护技术领域，具体涉及一种去除表面氚污染的等离子体去污系统。

背景技术

对放射性表面污染的去污根据去污方法性质通常分为化学去污、物理去污和化学物理结合去污。常见的化学去污采用化学溶剂（有机溶剂、酸液、络合物溶液、盐溶液等）清洗污染表面等；物理方法有表面擦拭、表层剥离等。随着技术发展，放射性污染去污已应用了多种现代的物理和化学手段，如超声、等离子体、激光等。另外根据去污是否使用液体还分为干法去污和湿法去污，干法去污较湿法去污产生的二次废物少，更利于废物的分离回收利用，等离子体去污是一种新兴的物理化学干法去污技术，适用于表面被污染的金属零部件及设备的去污。去污机理为：等离子体利用其高能量的活性成分有选择地与表面污染物反应，将其转变为具有挥发性的化合物，如氟化物和或碳酰基化合物，最终使污染物从表面去除。一般情况下，在保持与其它常规湿法去污技术同样去污效果的前提下，该技术产生的二次废物更少。

目前，公开文献报道中使用等离子体去除表面污染的文章几乎为民用清洗，有少量的使用去除⁶⁰Co污染的文章，但在只是研究性的试验文章，未介绍相关的装置，尤其是缺少对放射性氚污染的等离子体去污装置。当前，亟需发展一种去除金属表面放射性氚污染的等离子体去污系统。

发明内容

本实用新型所要解决的技术问题是提供一种去除表面氚污染的等离子体去污系统。

本实用新型的去除表面氚污染的等离子体去污系统，其特点是：所述的等离子体去污系统包括通过气体输送管道顺序连接的等离子体系统、密封罩、在线监测装置、过滤器、阀门、尾气后处理系统；所述的密封罩为密封的箱体，密封罩内安装有去污头、待去污物件，去污头接收等离子体系统通过气体输送管道输送的工作气体和等离子体系统通过传输电缆输送的电流，在去污头内激发产生等离子体引出作用在去污工作面上；所述的去污头的去污工作面为平面，平面朝下，待去污物件放置在去污工作面的下方，距离去污工作面的高度范围为0.5cm～2.0cm；所述的密封罩内还安装有热电偶，热电偶测量待去污物件的温度。

所述的密封罩的泄漏率的范围为20Pa·L/s～50Pa·L/s。

所述的等离子体去污系统功率较常规清洗机高，较等离子切割低，所要求的作用结果为表面轻微剥蚀；

所述的等离子体去污系统的工作过程如下：

a. 将待去污物件放置在密封罩中；

b. 依次开启尾气后处理系统、阀门、过滤器、热电偶；

c. 开启等离子体系统，在去污头内激发产生等离子体引出作用在去污工作面上，对待去污物件表面的氚污染去污，热电偶实时测量并记录去污过程中待去污物件的表面温度，去污完成后得到物件Ⅰ；

d. 取出物件Ⅰ，放置在在线监测装置中，监测物件Ⅰ表面的残留污染，当残留污染≤40.0Bq/cm²时完成去污工作，当残留污染>40.0Bq/cm²时再重复步骤a-d直至残留污染≤40.0Bq/cm²；

e. 气体输送管道中由去污工作产生的挥发性气体输送到过滤器，经过过滤器的滤芯和吸附塔进行过滤吸附，得到气体Ⅰ；

f. 开启阀门，气体Ⅰ进入尾气后处理系统，经尾气后处理系统的氧化还原将气体Ⅰ中载带的氚气处理成氚水，氚水通过分子筛进行吸附，得到的无害气体排放至空气中。

所述的去污头为单个去污头或多个去污头集成阵列组成。

所述的气体输送管道全过程密封；所述的气体输送管道为不锈钢管道。

所述的工作气体为压缩空气、氩气或氢气和氩气的混合气体中的一种。