[实用新型]一种溅射装置的制程反应室及溅射装置

权利要求书

1.一种溅射装置的制程反应室，包括：

反应室主体，所述反应室主体内设有一气体源以及一起辉面，所述起辉面朝向所述气体源，其特征在于，所述气体源与所述起辉面之间具有一预设距离，所述起辉面上设有粗糙层；所述预设距离为2mm。

2.根据权利要求1所述的制程反应室，其特征在于，所述反应室主体包括相互平行设置的两个侧壁板以及连接所述两个侧壁板的底部板，所述反应室主体内设有制程空间，所述两个侧壁板中的一个侧壁板上设有孔洞，所述孔洞的内壁顶部设有所述气体源，所述孔洞的内壁底部平行连接有所述起辉面，所述底部板位于所述制程空间内的一侧连接有基材。

3.根据权利要求2所述的制程反应室，其特征在于，所述制程反应室还包括：

上盖组件，所述上盖组件包括连接所述两个侧壁板的顶部板，所述顶部板位于所述制程空间内的一侧连接有靶材；

电源，所述电源连接所述靶材；

点燃装置，所述点燃装置连接所述气体源。

4.根据权利要求1所述的制程反应室，其特征在于，所述粗糙层为喷砂面。

5.根据权利要求3所述的制程反应室，其特征在于，所述靶材通过靶材连接件连接于所述顶部板。

6.根据权利要求2所述的制程反应室，其特征在于，所述基材通过基材连接件连接于所述底部板。

7.根据权利要求2所述的制程反应室，其特征在于，所述起辉面与所述两个侧壁板中的一个侧壁板相互垂直设置。

8.一种溅射装置，其特征在于，所述溅射装置包括如权利要求1-7中任意一项所述的制程反应室。