[实用新型]一种量子点膜有效

专利信息
申请号: 201720581325.2 申请日: 2017-05-23
公开(公告)号: CN207504007U 公开(公告)日: 2018-06-15
发明(设计)人: 胡文玮 申请(专利权)人: 汕头万顺包装材料股份有限公司;汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司
主分类号: H01L33/52 分类号: H01L33/52
代理公司: 广州知顺知识产权代理事务所(普通合伙) 44401 代理人: 彭志坚
地址: 515078 广东省*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 量子点层 量子点 阻隔层 本实用新型 基材层 裁切 侧面 失效问题 顶面 覆盖
【权利要求书】:

1.一种量子点膜,其特征在于,包括:第一基材层(1)、量子点层(3)、第一阻隔层(2)、以及第二阻隔层(4);所述第一阻隔层(2)夹设在所述第一基材层(1)和所述量子点层(3)之间;所述第二阻隔层(4)覆盖所述量子点层(3)的顶面和侧面。

2.如权利要求1所述的量子点膜,其特征在于:所述量子点膜从下往上的结构为:第一基材层(1)-第一阻隔层(2)-量子点层(3)-第二阻隔层(4)。

3.如权利要求1所述的量子点膜,其特征在于:所述量子点膜进一步包括第二基材层(5),所述第二基材层(5)覆盖在所述第二阻隔层(4)的顶面。

4.如权利要求3所述的量子点膜,其特征在于:所述量子点膜从下往上的结构为:第一基材层(1)-第一阻隔层(2)-量子点层(3)-第二阻隔层(4)-第二基材层(5)。

5.如权利要求3所述的量子点膜,其特征在于:所述第二阻隔层(4)和所述第二基材层(5)之间夹设有黏着层(6)。

6.如权利要求5所述的量子点膜,其特征在于:所述量子点膜从下往上的结构为:第一基材层(1)-第一阻隔层(2)-量子点层(3)-第二阻隔层(4)-黏着层(6)-第二基材层(5)。

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