[实用新型]一种量子点膜有效
申请号: | 201720581325.2 | 申请日: | 2017-05-23 |
公开(公告)号: | CN207504007U | 公开(公告)日: | 2018-06-15 |
发明(设计)人: | 胡文玮 | 申请(专利权)人: | 汕头万顺包装材料股份有限公司;汕头万顺包装材料股份有限公司光电薄膜分公司 |
主分类号: | H01L33/52 | 分类号: | H01L33/52 |
代理公司: | 广州知顺知识产权代理事务所(普通合伙) 44401 | 代理人: | 彭志坚 |
地址: | 515078 广东省*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 量子点层 量子点 阻隔层 本实用新型 基材层 裁切 侧面 失效问题 顶面 覆盖 | ||
本实用新型提供一种量子点膜,包括:第一基材层、量子点层、第一阻隔层、以及第二阻隔层;所述第一阻隔层夹设在所述第一基材层和所述量子点层之间;所述第二阻隔层覆盖所述量子点层的顶面和侧面。本实用新型的量子点膜当从量子点膜的侧面裁切量子点膜后,量子点层一样受到第二阻隔层的保护,从而有效避免侧面裁切后出现量子点层的失效问题。
技术领域
本实用新型涉及导电膜技术领域,尤其涉及一种量子点膜。
背景技术
现有的量子点膜,一般包括基材层,两阻隔层,以及量子点层;其中,基材层位于最底层,其中一阻隔层覆盖在基材层的顶面,量子点层夹设在两阻隔层之间。
然而,上述结构的量子点膜虽然由两阻隔层保护,但是,从量子点膜的侧面裁切后,量子点层的侧面失去了阻隔膜的保护,容易导致量子点层失效。
实用新型内容
鉴于以上所述,本实用新型研发一种能够有效避免从侧面裁切后出现量子点层失效问题的量子点膜。
本实用新型采用的技术方案为:一种量子点膜,其包括:第一基材层、量子点层、第一阻隔层、以及第二阻隔层;所述第一阻隔层夹设在所述第一基材层和所述量子点层之间;所述第二阻隔层覆盖所述量子点层的顶面和侧面。
进一步地,所述量子点膜从下往上的结构为:第一基材层-第一阻隔层-量子点层-第二阻隔层。
进一步地,所述量子点膜进一步包括第二基材层,所述第二基材层覆盖在所述第二阻隔层的顶面。
进一步地,所述量子点膜从下往上的结构为:第一基材层-第一阻隔层-量子点层-第二阻隔层-第二基材层。
进一步地,所述第二阻隔层和所述第二基材层之间夹设有黏着层。
进一步地,所述量子点膜从下往上的结构为:第一基材层-第一阻隔层-量子点层-第二阻隔层-黏着层-第二基材层。
相较于现有技术,本实用新型的量子点膜通过将所述阻隔层覆盖所述量子点层的顶面和侧面,当从该量子点膜的侧面裁切该量子点膜后,所述量子点层一样受到所述阻隔层的保护,从而有效避免侧面裁切后出现所述量子点层的失效问题。
附图说明
上述说明仅是本实用新型技术方案的概述,为了更清楚地说明本实用新型的技术方案,下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍,描述中的附图仅仅是对应于本实用新型的具体实施例,对于本领域普通技术人员来说,在不付出创造性劳动的前提下,在需要的时候还可以根据这些附图获得其他的附图。
图1:本实用新型实施例一量子点膜的示意图;
图2:本实用新型实施例一量子点膜的制作过程示意图;
图3:本实用新型实施例二量子点膜的示意图
图4:本实用新型实施例三量子点膜的示意图。
各部件名称及其标号
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