[实用新型]基板处理装置和喷头清洗装置

权利要求书

1.一种基板处理装置，其特征在于，包括：

一基板保持部，用于保持一基板；

至少一工艺液体喷洒单元，包含一喷头，用于在所述基板上方沿一路径喷洒一工艺液体；以及

一喷头清洗装置，设置在所述基板保持部的周围外侧，用于对放置在所述喷头清洗装置之上的所述至少一工艺液体喷洒单元的所述喷头喷洒一清洗液体，其中所述喷头清洗装置包含：

一中空的基座，包含一环形壁和一与所述环形壁的一端连接的管路段，其中所述环形壁的内部形成有一容置空间，用于将所述喷头收容于其内；

一清洗液体喷出管路，延伸至所述管路段内部，其中所述清洗液体喷出管路的喷出口对准所述容置空间，以对收容在所述容置空间内的所述喷头喷洒所述清洗液体；以及

一排液管，与所述管路段连接，用于排出清洗所述喷头后的所述清洗液体。

2.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述排液管还包含一开关阀用于控制所述排液管的通断。

3.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述至少一工艺液体喷洒单元还包含：一移动机构，与所述喷头连接，用于控制所述喷头从一待机位置移动至所述基板保持部，以在所述基板上方沿所述路径喷洒所述工艺液体。

4.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述移动机构包含：

一旋转驱动部，用于控制所述至少一工艺液体喷洒单元绕着一转轴在一平面上转动；以及

一升降驱动部，用于控制所述至少一工艺液体喷洒单元沿着垂直于所述平面的方向垂直升降。

5.如权利要求3所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷头清洗装置设置在所述待机位置。

6.如权利要求1所述的基板处理装置，其特征在于，所述至少一工艺液体喷洒单元的所述喷头包含：

至少一喷嘴，用于喷洒所述工艺液体；以及

一遮蔽罩，设置为环绕在所述至少一喷嘴的周围。

7.如权利要求6所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷头清洗装置包含一环形壁，所述环形壁内部形成有一容置空间，用于将所述喷头收容于其内，以及其中所述容置空间的构型与所述喷头的所述遮蔽罩的构型相对应且配合。

8.如权利要求7所述的基板处理装置，其特征在于，所述喷头清洗装置还包含一供气管路，所述供气管路的出气口对准所述容置空间，以对收容在所述容置空间内的所述喷头提供一气体，以将残留在所述喷头的所述清洗液体吹干。

9.一种喷头清洗装置，用于清洗一基板处理装置的喷头，所述喷头用于喷洒一工艺液体于一基板上，其特征在于，所述喷头清洗装置包含：

一中空的基座，包含一容置空间，用于收容所述喷头于其内；

一清洗液体喷出管路，包含一喷出口对准所述容置空间，以对收容在所述容置空间内的所述喷头喷洒清洗液体以清洗所述喷头；以及

一排液管，用于排出清洗所述喷头后的所述清洗液体。

10.如权利要求9所述的喷头清洗装置，其特征在于，所述排液管还包含一开关阀用于控制所述排液管的通断。

11.如权利要求9所述的喷头清洗装置，其特征在于，所述喷头清洗装置进一步包含一供气管路，所述供气管路的出气口对准所述容置空间，以对收容在所述容置空间内的所述喷头提供一气体，以将残留在所述喷头的所述清洗液体吹干。

12.如权利要求9所述的喷头清洗装置，其特征在于，所述基座还包含一环形壁和一与所述环形壁的一端连接的管路段，其中所述容置空间是由所述环形壁定义；其中所述清洗液体喷出管路延伸至所述管路段内部；以及其中所述排液管与所述管路段连接。