[实用新型]一种镀于分光棱镜上的分光介质膜

说明书

技术领域

本实用新型涉及光学领域，具体地说是一种镀于分光棱镜上的分光介质膜。

背景技术

常规监控镜头采用平板玻璃镀上分光膜，但是由于平板玻璃成像质量与棱镜相差很大，采用棱镜时又存在偏振效应。

现有技术的偏振分光棱镜能把入射的非偏振光分成两束垂直的线偏光，此偏振分光棱镜由一对高精度直角棱镜胶合而成，其中一个棱镜的斜边上镀有分光介质膜。目前使用的分光系统一般采用镀介质膜的棱镜组合进行分光。这种分光系统有较高的能量利用率。但由于目前现有的介质分光膜系在光倾斜入射的情况下使用，这将会引起强烈的偏振效应，从而使分光效果不理想，造成所得目标图像质量下降。

实用新型内容

为了弥补以上不足，本实用新型提供了一种对波段为400nm～650nm的可见光高透过，对波段为800nm～900nm近红外波段高反射，实现对波段400nm～ 900nm光线进行低偏振效应的分光介质膜，克服偏振同时提高成像质量。

本实用新型的技术方案是：

一种镀于分光棱镜上的分光介质膜，包括镀于分光棱镜上的膜系，其特征在于：所述膜系为多层结构，包括总数为103层，且交替分布的高折射率薄膜、次高折射率薄膜和低折射率薄膜，所述膜系从上至下依次为MLHLM(HL) ^2HMHLHMHL(HM)^5(HL)^10HM(HL)^2HM(HL)^8(HM)^2(HL)^14，其中H为高折射率薄膜，M为次高折射率薄膜，L为低折射率薄膜。

作为优选的技术方案，所述高折射率薄膜厚度为7.3-140.4nm，所述次高折射率薄膜厚度为56.6～201.4nm，所述低折射率薄膜厚度为5.0～311.2nm。

作为优选的技术方案，所述高折射率薄膜为Nb2O5薄膜或者Ti3O5薄膜，折射率为2.3～2.4。

作为优选的技术方案，所述次高折射率薄膜为镧铝混合膜料M2，折射率为 1.65～1.75。

作为优选的技术方案，所述低折射率薄膜为SiO2薄膜，折射率为1.46。

由于采用了上述技术方案，本实用新型所述的一种镀于分光棱镜上的分光介质膜通过设置103层，且交替分布的折射率薄膜、低折射率薄膜和次高折射率薄膜，通过优化每一层的厚度，对波段为400nm～650nm的可见光高透过，对波段为800nm～900nm近红外波段高反射，实现对波段400nm～900nm光线进行低偏振效应，克服偏振的同时提高成像质量。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例的结构示意图。

图2为本实用新型实施例的使用状态图。

图3为三种光线以35度角入射本实施例时不同波段光线的透过率。

其中1-膜系，2-高折射率薄膜，3-次高折射率薄膜，4-低折射率薄膜，5- 第一棱镜，6-第二棱镜，7-P光，8-S光，9-自然光。

具体实施方式

实施例一：如图1、图2所示，本实用新型所述的一种镀于分光棱镜上的分光介质膜，包括镀于分光棱镜上的膜系1，其特征在于：所述膜系1包括总数为103层，且交替分布的高折射率薄膜2、次高折射率薄膜3和低折射率薄膜4，所述膜系从上至下依次所述膜系从上至下依次为MLHLM(HL)^2HMHLHMHL(HM) ^5(HL)^10HM(HL)^2HM(HL)^8(HM)^2(HL)^14，其中H为高折射率薄膜2，M为次高折射率薄膜3，L为低折射率薄膜4。

所述高折射率薄膜2厚度为7.3-140.4nm，所述次高折射率薄膜3厚度为 56.6～201.4nm，所述低折射率薄膜4厚度为5.0～311.2nm。

所述高折射率薄膜2为Nb2O5薄膜或者Ti3O5薄膜，折射率为2.3～2.4。

所述次高折射率薄膜3为镧铝混合膜料M2，折射率为1.65～1.75。

所述低折射率薄膜4为SiO2薄膜，折射率为1.46。

具体膜系各层分布及厚度如下：