[实用新型]CVD镀膜机及镀膜装置

说明书

技术领域

本实用新型涉及化学气相沉淀技术领域，具体而言，涉及CVD镀膜机及镀膜装置。

背景技术

镀膜制程在工业界的应用极广，一般常使用在金属加工业、半导体业以及光电产业等。近几年来，由于半导体业及光电产业的迅速发展，是的镀膜技术得到了重大的进展。其中镀膜机主要指一类需要在较高真空度下进行的镀膜，具体包括很多种类，包括真空离子蒸发，磁控溅射，MBE分子束外延，PLD激光溅射沉积等很多种。光电产业镀膜是指以物理或者化学方法在光学原件表面镀上单层或者多层薄膜，利用入射、反射及透射光线在薄膜界面产生的干涉作用实现聚焦、准直、滤光、反射以及折射等效果。

但是现有采用CVD镀膜方法中，无法得到层厚均匀的镀膜，严重影响镀膜的质量。

因此，提供一种镀膜质量更好的CVD镀膜机及镀膜装置成为本领域技术人员所要解决的重要技术问题。

实用新型内容

本实用新型的第一目的在于提供一种CVD镀膜机，以缓解现有技术中镀膜质量差的技术问题。

本实用新型提供的一种CVD镀膜机，包括：箱体、喷气装置和激光装置；

所述箱体内设置有带动所述喷气装置移动的移动组件，所述喷气装置与所述移动组件连接，所述移动组件包括平移组件和升降组件；

所述激光装置设置在所述喷气装置外壁。

进一步地，所述喷气装置包括储气箱和喷嘴，所述储气箱底部设置有进气口，所述储气箱通过输气管与气源连通。

进一步地，所述平移组件与所述储气箱侧壁连接，所述升降组件与所述储气箱底部连接。

进一步地，所述平移组件包括与所述储气箱连接的连接杆和带动所述连接杆运动的第一动力源。

进一步地，所述升降组件包括与所述储气箱连接的伸缩杆和带动所述伸缩杆运动的第二动力源。

进一步地，所述激光装置包括激光源和激光聚集器，所述激光聚集器并排均匀的设置在所述喷嘴的两侧。

进一步地，所述储气箱外壁设置有用于放置激光源的固定槽。

进一步地，CVD镀膜机还包括带动待镀膜材料移动的进给装置，所述进给装置包括第一滚筒、第二滚筒和第三动力源。

进一步地，CVD镀膜机还包括冷却装置，冷却装置位于所述箱体内部。

本实用新型的第二目的在于提供一种镀膜装置，以缓解现有技术中镀膜质量差的技术问题。

本实用新型提供的一种镀膜装置，包括上料机构、传送带和所述的CVD镀膜机；

所述上料机构通过传送带与所述CVD镀膜机连接。

有益效果：

本实用新型提供的一种CVD镀膜机，包括箱体、喷气装置和激光装置，喷气装置和激光装置均设置在箱体内，其中喷气装置通过管路与气源连通，激光装置设置在喷气装置外壁，在使用时，需先将箱体内的多余气体排出，然后再通入保护气体，然后镀膜时，待镀膜材料从喷气装置上方经过，激光装置聚焦于喷气装置的上方，对喷气装置喷出的工作气体加热，使工作气体在激光装置的聚焦区域加热分解，因为喷出的气体具有惯性，因此被分解的工作气体能够粘附在待镀膜材料表面，并形成镀膜，由于采用激光的方式对工作气体进行激发加热，因此镀膜的效率高、不易损坏待镀膜材料，而且所得到的膜厚均匀、表面光滑；同时箱体内设置有带动喷气装置移动的移动组件，喷气装置与移动组件连接移动组件包括平移组件和升降组件，其中平移组件用于带动喷气装置的水平移动，升降组件用于带动喷气装置的上下移动，在对不同宽度的待镀膜材料进行镀膜时，喷气装置无法对待镀膜材料的整体宽度进行镀膜，因此可以通过平移组件带动喷气装置水平移动，这样可以完整对待镀膜材料进行镀膜；同时对于不同待镀膜材料，会采用不同的膜厚设计，通过升降组件可以对喷气装置进行竖直高度的调节，以调节膜层厚度。

本实用新型提供的一种镀膜装置，包括上料机构、传送带和CVD镀膜机；上料机构通过传送带与CVD镀膜机连接，镀膜装置与现有技术相比具有上述的优势，此处不再赘叙。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型具体实施方式或现有技术中的技术方案，下面将对具体实施方式或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图是本实用新型的一些实施方式，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的CVD镀膜机的示意图；

图2为本实用新型实施例提供的CVD镀膜机的内部结构示意图；